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广东省教育部产学研结合项目(2010B090400048)

作品数:4 被引量:28H指数:2
相关作者:付秀华贾宗合马放谢影唐昊龙更多>>
相关机构:长春理工大学东莞光阵显示器制品有限公司更多>>
发文基金:广东省教育部产学研结合项目更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇面形
  • 2篇非球面
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇元件
  • 1篇透镜
  • 1篇透镜加工
  • 1篇抛光
  • 1篇微晶
  • 1篇微晶玻璃
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...
  • 1篇轮廓仪
  • 1篇面形精度
  • 1篇面形误差
  • 1篇光洁度
  • 1篇光学
  • 1篇光学薄膜

机构

  • 4篇长春理工大学
  • 1篇东莞光阵显示...

作者

  • 4篇付秀华
  • 3篇贾宗合
  • 2篇唐昊龙
  • 2篇谢影
  • 2篇马放
  • 1篇耿似玉
  • 1篇杨道奇
  • 1篇杨永亮
  • 1篇潘永刚

传媒

  • 2篇中国光学
  • 1篇应用光学
  • 1篇长春理工大学...

年份

  • 1篇2014
  • 3篇2012
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
光束整形系统异形元件的研制被引量:2
2014年
为了实现非球柱面镜的高精度加工,解决这一领域面临的难题,对非球柱面镜的加工和检测方法进行了深入的研究。采用古典与现代制造技术相结合的方法,研制了用于光束整形的异形元件,该异形元件是由非球柱面镜和柱面镜组成。针对非球柱面镜面型难以控制的问题,给出了独特的抛光模设计。结果表明:经过轮廓仪检测面型精度为0.848 7μm,达到了图纸精度,满足了光学元件的使用要求。
付秀华崔金迪贾宗合
关键词:面形误差
高次非球面微晶玻璃元件的抛光工艺研究被引量:2
2012年
基于德国OptoTech ASM100CNC铣磨机和OptoTech ASP200CNC-B抛光机组成的非球面数控加工中心,研究了口径Ф110mm高次非球面微晶玻璃透镜的铣磨、抛光工艺以及相关工艺参数,同时采用英国TAYLOR HOBSON轮廓仪,在抛光中对其面形误差进行多次反馈补偿,使微晶玻璃零件表面的面形精度逐步收敛,最终获得高次非球面微晶玻璃元件表面面形Rt(PV值)为0.62μm;表面粗糙度为0.01μm;表面光洁度为三级。
谢影付秀华贾宗合马放唐昊龙田野
关键词:非球面微晶玻璃轮廓仪
红外跟踪系统中非球面硅透镜加工技术研究被引量:6
2012年
随着军用光学仪器的飞速发展,红外光学材料单晶硅广泛应用于红外光学元件和半导体行业,为了满足精密仪器对光学系统的要求,对光学元件的面型精度要求越来越高。针对红外跟踪系统中对高精度单晶硅透镜的加工技术要求,以Ф26mm的单晶硅透镜为例,通过多次反复研磨修抛和检测分析,并不断优化工艺参数,设计了特殊的夹具,解决了单晶硅表面光洁度问题以及中心偏差难以控制的加工技术难题,并实现了批量生产。经检测,单晶硅非球面面形精度达到0.2μm,表面光洁度达到Ⅲ级以上,中心偏差在1μm以内,各项参数均满足了红外跟踪系统的要求。
马放付秀华贾宗合谢影唐昊龙
关键词:非球面单晶硅面形精度表面光洁度
0.6~1.55μm可见/近红外超宽带增透膜的研制被引量:18
2012年
针对可见/近红外宽谱段光谱仪探测器窗口的使用要求,选择TiO2、M1和SiO2分别作为高、中、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计和比较。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,通过不断调整工艺参数,得到了光学性能优良、制备重复性好、牢固度强且致密的可见近红外宽带增透膜。该增透膜在(650±10)nm、900~1 100 nm和(1470±10)nm三波段内平均透过率≥99%,在620~1 550 nm宽波段内整体平均透射率≥97%,满足了光谱仪探测器窗口的实际使用要求。
杨道奇付秀华耿似玉杨永亮潘永刚
关键词:光学薄膜电子束蒸发离子束辅助沉积
共1页<1>
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