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国家高技术研究发展计划(2007AA03Z405)

作品数:2 被引量:10H指数:2
相关作者:徐现刚王英民巩海波夏伟胡小波更多>>
相关机构:山东大学山东华光光电子有限公司更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇刻蚀
  • 1篇红光LED
  • 1篇二极管
  • 1篇发光
  • 1篇发光二极管
  • 1篇发光二极管(...
  • 1篇干法刻蚀
  • 1篇6H-SIC
  • 1篇ITO
  • 1篇表面粗化
  • 1篇表面形貌
  • 1篇成核
  • 1篇粗化

机构

  • 2篇山东大学
  • 1篇山东华光光电...

作者

  • 2篇徐现刚
  • 1篇徐化勇
  • 1篇吴拥中
  • 1篇彭燕
  • 1篇宁丽娜
  • 1篇郝霄鹏
  • 1篇胡小波
  • 1篇夏伟
  • 1篇巩海波
  • 1篇王英民

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
ITO掩膜干法粗化GaP提高红光LED的提取效率被引量:5
2010年
采用氧化铟锡(ITO)颗粒掩膜,经感应耦合等离子体(ICP)刻蚀后制作了表面粗化的红光发光二极管(LED),并且研究了ITO腐蚀时间对粗化表面形貌的影响。测试结果表明,当粗化颗粒的大小为200~500 nm、腐蚀深度约200~400 nm时,能使制作的表面粗化红光LED在20 mA注入电流下光提取效率提高30%以上。并且,表面粗化不会影响LED的发光强度角度分布。
巩海波郝霄鹏夏伟吴拥中徐现刚
关键词:表面粗化干法刻蚀发光二极管(LED)
6H-SiC成核表面形貌与缺陷产生的研究被引量:5
2009年
利用光学显微镜观察了6H-SiC晶体成核表面形貌,并使用高分辨X射线衍射法检测了不同区域的结晶质量。根据表面形貌的不同将成核表面分为三个区域:平台区、斜坡区、凹坑区。平台区的结晶质量最好,斜坡区和凹坑区由于缺陷(例如微管、小角晶界和多型夹杂等)的存在导致结晶质量变差。依据温场分布以及籽晶的固定分析了凹坑产生的可能原因。根据观察纵切片发现源于斜坡区以及凹坑区的缺陷随着晶体的生长继承到晶体内部导致后期生长的晶体质量变差。最后我们提出了通过优化成核温场分布以及改善籽晶固定方法来提高晶体成核质量的思路。
王英民宁丽娜彭燕徐化勇胡小波徐现刚
关键词:6H-SIC成核表面形貌
共1页<1>
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