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国家自然科学基金(60536020)

作品数:15 被引量:188H指数:5
相关作者:罗毅韩彦军李洪涛孙长征赵维更多>>
相关机构:清华大学勤上光电股份有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程更多>>

文献类型

  • 15篇中文期刊文章

领域

  • 9篇电子电信
  • 7篇理学
  • 1篇电气工程

主题

  • 3篇GAN薄膜
  • 2篇氮化镓
  • 2篇膜厚
  • 2篇发光
  • 2篇半导体
  • 2篇GAN
  • 2篇LED
  • 2篇衬底
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇等离子体增强...
  • 1篇电流崩塌
  • 1篇电流崩塌效应
  • 1篇电学
  • 1篇电子浓度
  • 1篇电子器件
  • 1篇电阻
  • 1篇氧化硅
  • 1篇载气
  • 1篇窄线宽
  • 1篇色差

机构

  • 14篇清华大学
  • 1篇勤上光电股份...

作者

  • 14篇罗毅
  • 9篇韩彦军
  • 7篇李洪涛
  • 6篇席光义
  • 6篇江洋
  • 6篇汪莱
  • 6篇孙长征
  • 6篇赵维
  • 3篇熊兵
  • 3篇郝智彪
  • 3篇徐建明
  • 3篇钱可元
  • 2篇袁贺
  • 2篇张贤鹏
  • 2篇任凡
  • 1篇武庆
  • 1篇黄缙
  • 1篇胡飞
  • 1篇王霖
  • 1篇周奇伟

传媒

  • 7篇物理学报
  • 3篇半导体光电
  • 2篇光电子.激光
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇中国激光
  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇2011
  • 4篇2010
  • 2篇2009
  • 7篇2008
  • 1篇2007
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
BCB/InP基宽带低损耗共面波导微波传输线被引量:3
2008年
面向高速行波电吸收(EA)调制器的需要,设计并制作了基于苯并环丁烯(BCB)聚合物/InP衬底的宽带(0~40GHz)、低损耗微波共面波导传输线。对共面波导结构开展仿真设计,分别对BCB材料厚度、InP衬底导电率和信号电极宽度等关键参数进行了优化。结果表明,当设计的BCB膜厚为4μm、InP衬底导电率小于0.002(Ω·cm)^-1和信号线宽度为84μm时,微波传输性能可达最优。在此基础上,采用电阻率为10^8μΩ·cm的半绝缘(SI)InP衬底、涂覆4μmBCB薄膜,制作出0~40GHz范围内微波损耗小于0.5dB/mm的共面波导传输线。
侯海燕熊兵徐建明周奇伟孙长征罗毅
关键词:共面波导苯并环丁烯
柱状与孔状图形衬底对MOVPE生长GaN体材料及LED器件的影响被引量:7
2009年
在柱状图形蓝宝石衬底(PSS-p)和孔状图形蓝宝石衬底(PSS-h)上外延了GaN体材料和LED结构并进行了详细对比和分析.X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)测试结果表明,PSS-h上体材料的晶体质量和表面形貌都优于PSS-p上体材料的特性,通过断面扫面电子显微镜(SEM)照片看出PSS-h上GaN的侧向生长是导致这种差异的原因.另外,基于PSS-p和PSS-h上外延的LED材料制作而成的器件结果表明,其20mA下光功率水平相比普通蓝宝石衬底(CSS)分别提高了46%和33%.通过变温光荧光谱(PL)分析发现,样品的内量子效率十分接近.因此,可以推断PSS-h上侧向外延中存留的空气隙则会影响光提取效率的提高.
江洋罗毅汪莱李洪涛席光义赵维韩彦军
关键词:蓝宝石图形衬底氮化镓
基于X射线衍射的GaN薄膜厚度的精确测量
2008年
结合Williamson-Hall plot方法和线型分析方法的优点,提出了一种有效分离有限晶粒尺寸和非均匀应力等X射线衍射展宽效应的方法,可以用于GaN外延层厚度等参数的快速精确测量.用该方法对一系列在蓝宝石衬底上生长的厚度在0.7—4.2μm的GaN外延膜进行了测量,并与椭圆偏振光谱法测量结果进行了比较,结果表明其差别<4%,反应了这种方法的准确性.
李洪涛罗毅席光义汪莱江洋赵维韩彦军郝智彪孙长征
关键词:GAN薄膜厚度测量X射线衍射
AlGaN插入层对6H-SiC上金属有机物气相外延生长的GaN薄膜残余应力及表面形貌的影响被引量:4
2009年
研究了具有不同台阶数目的AlGaN插入层对在6H-SiC衬底上利用金属有机物气相外延(MOVPE)生长的GaN体材料残余应力和表面形貌的影响.高分辨率X射线衍射测试表明样品的c轴晶格常数随台阶数目的增多而增大;低温光荧光谱中GaN发光峰也随着台阶数目增多而发生蓝移,这些变化都反映出GaN中残余张应力的减小.此外,原子力显微镜测试表明样品表面起伏和粗糙度也都随着插入层的引入和台阶数目的增多得到了明显的改善.
江洋罗毅席光义汪莱李洪涛赵维韩彦军
关键词:残余应力表面形貌SIC衬底
Effects of InGaN barriers with low indium content on internal quantum efficiency of blue InGaN multiple quantum wells被引量:1
2010年
Blue In0.2Ga0.8N multiple quantum wells (MQWs) with InxGa1-xN (x = 0.01 - 0.04) barriers are grown by metal organic vapour phase epitaxy. The internal quantum efficiencies (IQEs) of these MQWs are studied in a way of temperature-dependent photoluminescenee spectra. Furthermore, a 2-channel Arrhenius model is used to analyse the nonradiative recombination centres (NRCs). It is found that by adopting the InGaN barrier beneath the lowest well, it is possible to reduce the strain hence the NRCs in InGaN MQWs. By optimizing the thickness and the indium content of the InGaN barriers, the IQEs of InGaN/InGaN MQWs can be increased by about 2.5 times compared with conventional InGaN/GaN MQWs. On the other hand, the incorporation of indium atoms into the intermediate barriers between adjacent wells does not improve IQE obviously. In addition, the indium content of the intermediate barriers should match with that of the lowest barrier to avoid relaxation.
汪莱王嘉星赵维邹翔罗毅
MOVPE低温生长的n型GaN电学特性研究被引量:2
2008年
系统研究了采用金属有机物化学气相外延方法在740℃和900℃条件下生长的n型GaN的电学特性.电化学电容-电压测试表明,在低温条件下采用三乙基镓作为Ga源生长有利于降低非故意掺杂n型GaN的背景杂质浓度.另外,对重掺Si的n型GaN的霍耳效应测试表明,随着Si掺杂浓度增大,电子浓度相应线性增大,表现出杂质带导电特性,而迁移率则相应减小.同时,原子力显微镜测试和X射线衍射测试均表明生长温度和掺杂浓度对外延材料的表面形貌和晶体质量有影响,特别是在高掺杂浓度的情况下,样品的表面形貌恶化更严重.在所研究的Si掺杂浓度范围内,在氧气中退火前后所有样品的电子迁移率基本不变,而Si掺杂浓度高于6×1019cm-3的样品在氧气中退火后电子浓度会下降,表明对低温生长的重掺杂n型GaN,热处理的过程有助于Si原子取代N原子形成受主而产生补偿施主的作用.
汪莱张贤鹏席光义赵维李洪涛江洋韩彦军罗毅
关键词:N型GAN电子浓度迁移率
非故意掺杂GaN薄膜方块电阻与载气中N_2比例关系研究
2008年
利用金属有机气相外延方法研究了非故意掺杂GaN薄膜的方块电阻与高温GaN体材料生长时载气中N2比例的关系.研究发现,随着载气中N2比例的增加,GaN薄膜方块电阻急剧增加.当载气中N2比例为50%时,GaN薄膜方块电阻达1.1×108Ω/□,且GaN表面平整,均方根粗糙度为0.233 nm.二次离子质谱分析发现,载气中N2比例不同的样品中碳、氧杂质含量无明显差别.随着载气中N2比例的增加,GaN材料中螺型位错相关缺陷密度无明显变化,而刃型位错相关缺陷密度明显增加.结果表明,刃型位错的受主补偿作用是导致GaN薄膜方块电阻变化的主要原因.
席光义郝智彪汪莱李洪涛江洋赵维任凡韩彦军孙长征罗毅
关键词:载气位错
AlGaN表面坑状缺陷及GaN缓冲层位错缺陷对AlGaN/GaN HEMT电流崩塌效应的影响被引量:3
2008年
利用金属有机气相外延(MOVPE)技术生长了具有不同AlGaN表面坑状缺陷和GaN缓冲层位错缺陷密度的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)样品,并对比研究了两种缺陷对器件栅、漏延迟电流崩塌效应的影响.栅延迟测试表明,AlGaN表面坑状缺陷会引起栅延迟电流崩塌效应和源漏电阻的增加,而且表面坑状缺陷越多,栅延迟电流崩塌程度和源漏电阻的增加越明显.漏延迟测试显示,AlGaN表面坑状缺陷对漏延迟电流崩塌影响不大,而GaN缓冲层位错缺陷主要影响漏延迟电流崩塌.研究结果表明,AlGaN表面坑状缺陷和GaN缓冲层位错缺陷分别是引起AlGaN/GaN HEMT栅、漏延迟电流崩塌的电子陷阱来源之一.
席光义任凡郝智彪汪莱李洪涛江洋赵维韩彦军罗毅
关键词:ALGAN/GAN电流崩塌
窄线宽半导体激光器件被引量:13
2007年
分布反馈半导体激光器的线宽一般较大,难以满足光纤传感等领域的要求。根据C.H.Henry于1982年提出的半导体激光器的线宽理论,通过适当设计DFB半导体激光器的腔长、耦合系数、微分增益、光限制因子,能有效地减小激光器的线宽。同时,空间烧孔现象也可限制DFB半导体激光器的线宽,为此需要合理设计光栅结构。在此基础上,DFB激光器的线宽能达到几十千赫兹的量级。此外,采用DBR结构或者外腔结构,也可以获得相当窄的线宽。
罗毅黄缙孙长征
关键词:窄线宽DFB激光器DBR激光器外腔激光器
LED波长一致性和温度均匀性对背光源色差的影响被引量:7
2010年
直下式动态三基色LED背光源具有色域广、寿命长、节能环保、对比度高等优势,但许多因素限制了其颜色的表现力。研究了LED波长一致性、背光温度均匀度两个因素对色差的影响,指出为使色差小于人眼所能分辨范围(CIE1976色坐标体系Δu′v′小于0.005),LED的主波长波动范围应低于5nm,背光源不同位置的最大温差应低于8℃。
刘煜原罗毅韩彦军钱可元
关键词:色差
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