博士科研启动基金(471-38650322)
- 作品数：8 被引量：11H指数：2
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- 相关机构：武汉理工大学中国科学院上海光学精密机械研究所山东理工大学更多>>
- 发文基金：博士科研启动基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学更多>>
- 多孔ZnO薄膜结构与光学性能研究被引量：2
- 2010年
- 采用sol-gel提拉法,以聚乙二醇(PEG2000)为模板剂,醋酸锌为前驱体,乙醇为溶剂,二乙醇胺为络合剂,在玻璃基片上生长了多孔ZnO薄膜,利用SEM和紫外分光光度计分析了多孔ZnO薄膜的表面形貌和光学性质。研究了涂膜层数,模板剂加入量对多孔ZnO薄膜结构和透射率的影响。实验结果表明:随着涂膜层数的增加,薄膜的透射率有减小的趋势;当镀膜层数一定时,加入PEG2000后,有利于ZnO多孔结构的形成,在一定范围内,孔尺寸随PEG加入量的增加而增大,薄膜的紫外-可见光透射率随PEG加入量的增加而减小。
- 付志伟夏志林薛亦渝李展望郭培涛彭桦
- 关键词：ZNO薄膜多孔透射率层数模板剂
- 碱性条件下多孔SiO_2增透膜的结构控制被引量：1
- 2010年
- 以正硅酸乙酯为无机前躯体,在碱性条件下,采用溶胶-凝胶技术,用浸渍法提拉工艺制备了二氧化硅透明多孔薄膜。详细研究了催化剂的含量对溶胶及膜层性能的影响。利用Netzsch热分析仪研究了干凝胶在干燥过程中的热稳定性,用扫描电子显微镜(SEM)对样品薄膜的形态结构进行了表征以及用分光光度计考察了薄膜的增透性能。结果表明,氨用量的增加对溶胶黏度的影响不大,但缩短了溶胶达到最佳涂膜效果的陈化时间;随着氨水加入量的增加,SiO2颗粒的粒径增大;掺入有机添加剂N,N-二甲基甲酰胺可以提高薄膜的性能,有效抑制颗粒生长;氨水催化制备的薄膜透过率相对较高,膜层峰值在640～690nm范围内透射率达99%以上。
- 彭桦夏志林薛亦渝郭培涛付志伟赵立新
- 关键词：碱性条件透射率
- 薄膜激光损伤中的等离子体液滴膨胀过程
- 2009年
- 实验中,长脉冲激光作用下的薄膜破坏常伴随着等离子体闪光,该闪光是等离子体在向外空间膨胀消耗能量时所发出的弧光。从高密度等离子体液滴膨胀过程的运动学、动力学、热力学过程出发,分析了等离子体液滴膨胀过程中的液滴半径、电子加热速率、电子密度、电子温度、离子温度等随时间演化的情况。分析认为等离子体膨胀引起的电子密度变化会影响其对激光能量的吸收速率,从而影响电子、离子温度,进而影响等离子体膨胀速度。这些影响也必将延伸到等离子体对薄膜表面的冲击压力中去,对薄膜激光损伤过程的后期分析具有重要的意义。
- 夏志林薛亦渝郭培涛黄才华李展望傅志伟
- 关键词：光学薄膜激光损伤等离子体
- 基于平板夹具的电子束蒸发沉积薄膜中的挖坑效应分析被引量：4
- 2008年
- 电阻加热具有比较好的加热均匀性，可以认为对于非升华性材料，具有比较理想的平面源发射特性n=1。而电子束加热时，通常n=2～3，甚至可以为6，发射特性参数的范围大，没有取值指导理论或规律，具有很大的不确定性，这对分析薄膜均匀性非常不利。采用细分蒸发源为无数个小的面蒸发源的思想，建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型。分析结果表明电子束蒸发方法很难获得理想的平面蒸发源，不同程度的挖坑效应将使得n值不同程度地偏离n=1，挖坑效应越明显，n值越大。可以从镀膜机结构设计及薄膜沉积工艺选取两方面着手，降低挖坑效应带来的影响。该研究对认识蒸发源材料发射特性的物理含义具有重要意义，对实验工作同样具有指导性意义。
- 夏志林赵元安黄才华薛亦渝杨芳芳郭培涛
- 挖坑效应对球形夹具下电子束蒸发沉积薄膜厚度均匀性的影响
- 2009年
- 厚度均匀性是薄膜制备过程中不可忽视的薄膜特性,厚度不均匀会导致薄膜成品率降低。熔融性比较差的镀膜材料在蒸发过程中以直接气化为主,挖坑效应比较明显。此时,在分析薄膜厚度均匀性时,蒸发源发射特性不随时间变化的假设不再合理。细分蒸发源为无数个小的薄板蒸发源,建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型。结果表明,在所选镀膜机结构参数下,挖坑效应对薄膜厚度均匀性影响明显;但挖坑效应并不总导致薄膜厚度均匀性变差,设计合适的镀膜室结构以及薄膜制备工艺参数,可借助挖坑效应在一定程度上改善薄膜厚度均匀性。采用易于出现挖坑效应的材料作为镀膜材料时,该研究对设计薄膜沉积工艺参数具有指导性意义。
- 夏志林薛亦渝郭培涛吴师岗
- 三倍频偏振分光膜激光预处理实验研究
- 2009年
- 激光预处理作为提高薄膜抗激光损伤能力的一种方法,得到了广泛的研究。采用Nd∶YAG三倍频激光对光学薄膜进行了预处理,实验发现三倍频激光预处理对薄膜抗激光损伤能力有明显的影响,但是影响规律比较复杂。结果表明合适的激光预处理能量密度与测试激光能量密度有关:确定能量密度的激光预处理,在不同能量密度测试激光下的预处理效果不一,有的可以改善薄膜抗激光损伤能力,有的则相反;同样地,对于确定能量密度的测试激光,不同能量密度的激光预处理其效果也不相同,存在一个能量密度范围,在该范围内的预处理激光脉冲才能有效提高薄膜抗激光损伤能力。该实验结果给了一个启示:激光预处理能量的选取要针对元件的服役情况而定。
- 夏志林郭培涛薛亦渝黄才华杨芳芳
- 关键词：激光预处理光学薄膜损伤阈值
- 光学薄膜激光预处理能量密度选取被引量：4
- 2009年
- 采用Nd:YAG三倍频激光对光学薄膜进行了预处理。实验发现三倍频激光预处理对薄膜的抗激光损伤能力有明显的影响,影响规律比较复杂,归纳得出合适激光预处理能量密度与测试激光能量密度有关。理论上借助杂质诱导薄膜损伤的概率统计模型,从激光预处理引起的激光微区退火以及形成微尺寸损伤两个主要方面着手,很好地解释了复杂的实验现象。总体上看,预处理激光能量密度低于激光退火所需临界能量密度时,预处理效果以负作用为主;预处理激光能量密度高于激光退火所需临界能量密度,且低于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果以改善薄膜抗激光损伤能力为主,预处理激光能量密度要尽量选在这个范围内;预处理激光能量密度高于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果同样以负作用为主。
- 夏志林赵元安黄才华邵建达薛亦渝杨芳芳郭培涛
- 关键词：光学薄膜激光预处理损伤阈值
- 基于膜系设计控制薄膜残余应力的研究
- 2009年
- 残余应力大的薄膜,容易产生脱膜现象,使得薄膜失去所需功能。在激光薄膜领域,残余应力也是薄膜激光损伤阈值难以提高的原因之一。基于热收缩效应模型和弹性力学原理,从薄膜膜系着手提出了控制薄膜残余热应力的膜系设计原则,将该原则的评价函数用于薄膜膜系设计中,采用优化方法可以设计出残余热应力可接受的薄膜。
- 夏志林薛亦渝郭培涛黄才华李展望傅志伟
- 关键词：光学薄膜残余热应力膜系设计有限元模拟
