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有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室开放基金(GXKFZ-05)

作品数：1 被引量：2H指数：1
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇晶体
  • 1篇晶体结构
  • 1篇激光分子束外...
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇SI(111...
  • 1篇硅
  • 1篇ALN薄膜

机构

  • 1篇广西大学

作者

  • 1篇何欢
  • 1篇符跃春

传媒

  • 1篇机械工程材料

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Si(111)和Si(100)衬底上AlN薄膜的激光分子束外延生长特征被引量：2
2012年
采用激光分子束外延技术在Si(111)和Si(100)衬底上制备了AlN薄膜,研究了衬底温度和激光能量对薄膜物相结构和形貌的影响。结果表明:低的激光能量和高的衬底温度有益于薄膜的取向度和表面质量;激光能量为100mJ时,Si(111)衬底上的AlN薄膜呈单一的h-AlN(002)取向,Si(100)衬底上的薄膜在600℃时出现小的h-AlN(100)衍射峰,在700℃时呈微弱的h-AlN(002)取向;在Si(111)衬底上更易生长出取向度高的AlN薄膜。
李雪飞谢尚昇何欢符跃春
关键词：ALN薄膜硅激光分子束外延晶体结构
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