河南省基础与前沿技术研究计划项目(122300410129)
- 作品数:3 被引量:2H指数:1
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- 相关领域:理学一般工业技术机械工程电子电信更多>>
- 钠原子吸附碳纳米管场发射性质研究
- 2013年
- 利用第一性原理密度泛函的方法对钠原子吸附闭口碳纳米管的场发射性质进行了综合研究,建立了(5,5)闭口碳纳米管吸附不同数量钠原子的吸附模型,并对加电场和未加电场下的模型进行了几何结构分析以及吸附能、离化能、局域态密度、Mulliken电荷分布的计算和分析。计算结果表明吸附能随着电场的增加而变大,吸附稳定性增强。吸附钠原子的碳纳米管在施加外电场后,费米能级附近的局域态密度随着钠原子的吸附而增加。钠原子在碳纳米管中的吸附可以在其尖端表面产生诱导偶极矩导致电荷由碳纳米管向钠原子大量转移,从而驱使电子由碳纳米管尖端发射到真空中,提高了碳纳米管的场发射性能。
- 樊志琴李瑞
- 关键词:光电子学场发射碳纳米管密度泛函
- 纳米铜膜的光吸收性质研究被引量:1
- 2015年
- 采用磁控溅射方法在K9光学玻璃基片上沉积一定厚度的铜薄膜,通过X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、光栅光谱仪等检测铜薄膜结构、光吸收性质。检测结果表明:所制备的Cu膜结晶度较好;Cu膜的吸收波段较宽,半峰全宽为201 nm,但光栅光谱仪所得的吸收谱与紫外可见光分度计所得吸收谱存在差异:对同一金属薄膜,由光栅光谱仪得到的吸收光谱比由紫外可见分光光度计得到的吸收光谱,峰位产生了"红移",且峰数不同,原因是光源的不同及实验仪器分辨率的不同。
- 樊志琴何源源李瑞
- 关键词:光谱学吸收光谱磁控溅射光栅光谱仪
- 磁控溅射Cu薄膜的光电性能研究被引量:1
- 2017年
- 利用磁控溅射技术,通过正交试验设计方法,在K9光学玻璃基底上制备了Cu薄膜,研究了溅射时间、基底温度和氩气流量对Cu薄膜光电性能的影响。研究表明:Cu薄膜的透射谱在紫外波段362 nm处有明显吸收峰,但在可见光波段吸收强度较弱,说明Cu膜在可见波段有较高的透光性;膜厚度增加则光学透射率降低。电阻率随膜厚的增大,大体上呈逐渐减小的趋势;1100 nm为临界尺寸,Cu膜厚度<1100 nm时,电阻率值变化较快;Cu薄膜厚度>1100 nm时,电阻率变化缓慢至定值。当溅射时间为25 min、基底温度为300℃、氩气流量为6.9 sccm时所得样品在紫外-可见光区没有吸收,且导电性好。
- 樊志琴何源源李瑞
- 关键词:磁控溅射光学性能电学性能