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国家自然科学基金(10174035)

作品数:2 被引量:1H指数:1
相关作者:李伟华中陈坤基黄信凡张永军更多>>
相关机构:南京大学吉林师范大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金吉林省科技发展计划基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇等离子
  • 1篇电子束刻蚀
  • 1篇微腔
  • 1篇晶格
  • 1篇晶体
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光子
  • 1篇光子晶体
  • 1篇发光
  • 1篇超晶格

机构

  • 1篇吉林师范大学
  • 1篇南京大学

作者

  • 1篇孟祥东
  • 1篇李卫
  • 1篇徐骏
  • 1篇杨景海
  • 1篇张永军
  • 1篇黄信凡
  • 1篇陈坤基
  • 1篇华中
  • 1篇李伟

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
利用多层膜生长技术制备纳米印章模板被引量:1
2006年
在纳米印章技术中,为克服电子束刻蚀制备50nm以下线条的技术难点,利用等离子增强化学气相沉积技术制备了a-Si/SiNx多层膜,再利用选择性湿法腐蚀或干法腐蚀在横截面上制备出浮雕型一维纳米级模板.多层膜子层之间界面清晰陡峭,可以在纳米量级对子层厚度进行控制,得到了侧壁在纳米尺度上平滑的模板.通过控制多层膜子层的生长时间,制备出线条宽度和槽状宽度均为20nm的等间距模板,品质优于电子束刻蚀技术制备的模板.
张永军李卫孟祥东杨景海华中李伟徐骏黄信凡陈坤基
关键词:电子束刻蚀等离子
微腔中nc-Si/SiN超晶格的光致发光
2006年
研究了一维光子晶体微腔结构对nc-Si/a-SiNz超晶格发射的调制.一维光子晶体微腔采用两种具有不同折射率的非化学组分非晶氮化硅的周期调制结构,腔中嵌入采用激光晶化方法制备的硅量子点阵列,从Raman谱和透射电子显微镜分析得到其尺寸约为3~4 nm.从光致发光谱上观察到明显的选模作用、明显变窄的发光峰以及约两个量级的发光强度的增强.微腔对硅量子点阵列发光的调制主要表现在两个方面:共振模式的增强和非共振模式的抑制.硅量子点中位于腔共振模式的辐射跃迁被增强,非共振模式的辐射跃迁被抑制,因此位于腔共振频率处的跃迁通道成为硅量子点中唯一的辐射跃迁通道,导致光致发光谱的窄化和强度的增强.因此,在提高硅材料发光效率方面,光子晶体微腔具有非常大的应用前景.
陈三
关键词:微腔光子晶体光致发光
共1页<1>
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