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国家高技术研究发展计划(20002AA335030)

作品数:1 被引量:5H指数:1
相关作者:肜建娜龚勇宏周学东倪佳苗杨晟更多>>
相关机构:武汉理工大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇紫外
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇TIO
  • 1篇CEO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇武汉理工大学

作者

  • 1篇赵修建
  • 1篇杨晟
  • 1篇倪佳苗
  • 1篇周学东
  • 1篇龚勇宏
  • 1篇肜建娜

传媒

  • 1篇武汉理工大学...

年份

  • 1篇2006
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
磁控溅射法制备CeO_2-TiO_2紫外吸收薄膜被引量:5
2006年
采用射频磁控溅射在玻璃基片上沉积具有紫外吸收CeO2-TiO2混和薄膜。通过制备一系列不同物质的量浓度比的,n(CeO2):n(TiO2)靶材(1.0:0,0.90:0.10,0.80:020,0.70:0.30,0.60:0.40,0.50:0.50,0.40:0.60,0.30:0.70,0.20:0.80,0.10:0.90,0:1.0),研究其紫外吸收性能最佳的物质的量浓度比:TiO2加入CeO2后,改变CeO2的结晶状态并提高UV吸收.采用Raman和XPS表征薄膜的特性,物质的量浓度比值在n(CeO2):n(TiO2)=0.5:0.5,0.6:0.4时,薄膜为非晶态,并具有高的紫外吸收(98%)和可见光透过率(70%-80%);XDS分析表明薄膜存在(F^4+,Ce^3+和Ti^4+。
周学东倪佳苗赵修建杨晟龚勇宏肜建娜
关键词:磁控溅射
共1页<1>
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