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国家重点基础研究发展计划(2006CB932501)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:刘俊标方光荣吕士龙薛虹靳鹏云更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇电子束曝光
  • 1篇英文
  • 1篇柔性铰链
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇竖式
  • 1篇图形发生器
  • 1篇SEM
  • 1篇EBL

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 2篇刘俊标
  • 1篇殷伯华
  • 1篇靳鹏云
  • 1篇韩立
  • 1篇薛虹
  • 1篇郭少鹏
  • 1篇吕士龙
  • 1篇方光荣
  • 1篇王丽娜

传媒

  • 1篇压电与声光
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 2篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
竖式高精度压电尺蠖式位移致动器被引量:1
2010年
介绍了一种结构简单,易装配的竖式高精度压电尺蠖式位移致动器,阐述了致动器的工作原理和结构形式。致动器采用叠堆式压电陶瓷作为驱动,利用柔性铰链作为箝位,能可靠地实现光轴的双向运动。位移分辨率可达到纳米级别,步距可在纳米级至微米级间任意选择。
王丽娜刘俊标郭少鹏韩立
关键词:柔性铰链
小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文)被引量:2
2010年
为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microsco-py,SEM)的桌面级小型电子束曝光系统.建立了以浮点DSP为控制核心的高速图形发生器硬件系统.利用线性计算方法实现了电子束曝光场的增益、旋转和位移的校正算法.在本曝光系统中应用了新型压电陶瓷电机驱动的精密位移台来实现纳米级定位.利用此位移台所具有的纳米定位能力,采用标记追逐法实现了电子束曝光场尺寸和形状的校准.电子束曝光实验结果表明,场拼接及套刻精度误差小于100 nm.为了测试曝光分辨率,在PMMA抗蚀剂上完成了宽度为30 nm的密集线条曝光实验.利用此系统,在负胶SU8和双层PMMA胶表面进行了曝光实验;并通过电子束拼接和套刻工艺实现了氮化物相变存储器微电极的电子束曝光工艺.
殷伯华方光荣刘俊标靳鹏云薛虹吕士龙
关键词:图形发生器
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