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热蒸发SiO大量合成硅纳米线及其可控p型掺杂: 2011年; 文章采用化学气相沉积法,以一氧化硅粉末为硅源,于1 350℃进行高温热蒸发,成功合成了大量单晶硅纳米线;并利用X-射线衍射、场发射扫描电子显微镜以及透射电子显微镜等手段对产物的形貌和微结构进行了系统表征。硅纳米线具有良好的结晶质量,直径在20～80 nm之间,长度为数十微米至数百微米,其外层通常为一层非晶硅氧化层所包裹。通过利用硼胶在高温下的扩散掺杂,进一步实现了硅纳米线的可控p型掺杂。针对单根硅纳米线器件的测量表明,硅纳米线的电导率可以从本征时的约10-7S/cm大幅提高到掺杂后的0.2 S/cm以上,且掺杂浓度可由扩散温度控制。此扩散掺杂方法简单有效,克服了氧化物辅助法生长硅纳米线电输运性质不易控制的难题,获得的p型硅纳米线有望应用于高性能硅纳米器件的研究。; 马渊明谢超江鹏于永强王莉揭建胜; 关键词：硅纳米线热蒸发 P型掺杂电学特性

高脉冲功率能量PLD法制备MgZnO薄膜中的沉积机理被引量：7: 2009年; 用PLD法成功制备了一系列高质量的MgZnO薄膜。实验中发现高脉冲能量沉积薄膜的结构和发光特性随基片温度的变化规律与低脉冲能量下的结果不一样:基片在室温时高脉冲能量制备薄膜的XRD峰的半峰全宽比高基片温度时的结果相对更小;AFM显示其颗粒变大,柱状生长突出;PL谱紫峰与绿峰强度比最大,结晶质量反而提高。另一方面,与低脉冲能量时相反,增大氧气压强后高脉冲能量沉积的薄膜XRD半峰全宽变窄。结合实验现象和表征,合理解释了高脉冲能量沉积的机理。室温制备高质量MgZnO薄膜的PLD沉积机理对于以后在柔性衬底上沉积薄膜的研究有重要的参考价值。; 汪壮兵李祥于永强梁齐揭建胜许小亮; 关键词：脉冲激光沉积 X射线衍射原子力显微镜光致发光谱

氧气压强对PLD制备MgZnO薄膜光学性质的影响(英文)被引量：1: 2010年; 使用准分子脉冲激光沉积（PLD）方法在Si（100）基片上制备了高度c轴取向的MgZnO薄膜。分别使用SEM、XRD、XPS、PL谱和吸收谱表征了薄膜的形貌、结构、成分和光学性质。实验发现氧气压强对MgZnO薄膜的结构和光学性质有重要影响。当氧气压强由5 Pa增大到45 Pa时,薄膜的PL谱紫外峰蓝移了86meV,表明氧气压强的增大提高了MgZnO薄膜中Mg的溶解度。在15 Pa氧气压强下制备的薄膜显示了独特、均匀的六角纳米柱状结构,其PL谱展示了优异的发光特性,具有比其他制备条件下超强的紫外发射和微弱的可见发光。500600 nm范围内的绿光发射,我们讨论其机理可能源于深能级中与氧相关的缺陷。使用PLD得到纳米柱状结构表明：优化制备条件,可望使用PLD制备ZnO纳米阵列的外延衬底;可使用PLD技术开发基于ZnO纳米结构的高效发光器件。; 汪壮兵王莉吴春艳于永强胡治中梁齐许小亮揭建胜; 关键词：蓝移

基片温度对PLD制备ZnO薄膜光学常数的影响(英文)被引量：2: 2009年; 光谱椭偏仪被用来研究用脉冲激光沉积方法在Si(100)基片上,温度分别为400,500,600,700℃制备的ZnO薄膜的特性。利用三层Cauchy散射模型拟合椭偏参数,计算了每个温度下制备的ZnO薄膜在400～800nm波长范围内的折射率(n)和消光系数(k)。发现基片温度对光学常数有很大的影响。通过分析XRD表征的晶体结构和AFM表征的薄膜表面形貌,发现折射率的变化归因于薄膜堆积密度的变化。为了获得具有较好的光学和薄膜质量的ZnO薄膜,相比与其他沉积温度600℃或许是最佳的沉积温度。; 于永强梁齐马渊明仇旭升章伟揭建胜; 关键词：PLD 氧化锌光学常数

退火对Al_2O_3薄膜结构和发光性能的影响被引量：4: 2009年; 氧化铝(Al_2O_3)薄膜具有许多优良的物理化学性能,在机械、光学及微电子等高科技领域有着广泛应用,一直受到人们的高度关注。但Al_2O_3具有多种物相形态,性质差别很大。因此研究不同结构对其发光性能的影响在Al_2O_3实际应用中有着重要意义。本文采用射频磁控溅射技术在单晶硅衬底上制备了Al_2O_3薄膜,并在氮气中进行了不同温度的退火,对比了退火前后薄膜的结构和光致发光特性。观察到了在384nm和401nm附近的两个荧光峰,这两个发光峰都是由色心引起的。随着退火温度的升高,Al_2O_3薄膜的结晶质量变好,同时荧光峰峰位发生了相应的变化,强度也发生了明显的变化。; 范文宾李合琴邵林飞; 关键词：AL2O3薄膜光致发光光谱射频磁控溅射红移色心

奥氏体不锈钢表面硬质薄膜的制备与性能研究被引量：1: 2009年; 用磁控溅射法在奥氏体不锈钢基片上分别制备了TiN薄膜和Al_2O_3薄膜,并用XRD、SEM和显微硬度等测试手段对沉积态和退火态薄膜进行表征,分析了不同工艺参数对薄膜的沉积速率、结构和性能的影响,从而得到最佳工艺参数。TiN薄膜在沉积气压为1.5 Pa,氩氮比为16:16时薄膜的硬度值最大为16.0 GPa。Al_2O_3薄膜在沉积气压为0.5 Pa,氩氧比为10:1时薄膜的硬度值可达25.2 GPa。; 范文宾李合琴邵林飞; 关键词：奥氏体不锈钢氮化钛薄膜氧化铝薄膜显微硬度

微机械加工工艺的三维仿真模型及算法被引量：1: 2010年; 文中对近年来国内外关于微机械加工工艺表面形貌模拟的三维仿真模型及算法进行了较为详细的介绍与比较,并辅以实例的仿真结果,以使对微机械加工的三维工艺仿真有较全面的认识。; 徐栋梁张鉴许晓琳

ZA27合金低频阻尼行为及其微观组织被引量：2: 2009年; 通过对锌铝合金ZA27进行365℃固溶和250℃人工时效,在0.1、0.3、1.0Hz 3个振动频率下,测试了铸态和固溶时效态合金从室温到400℃的阻尼随温度、频率、应变振幅的变化规律,研究了阻尼行为与相应微观组织之间的关系。根据Al-Zn二元合金平衡相图,分析了ZA27合金在平衡和实际冷速下所结晶的铸态和固溶时效组织。结果表明:铸态ZA27合金阻尼的大小与频率有关、与应变振幅无关;在300℃附近阻尼-温度曲线出现的阻尼峰位不随频率的改变而移动,说明在此温度有一级固态相变;经固溶时效后,合金组织明显细化,阻尼特性基本不变,但阻尼峰值明显高于铸态合金,表明固溶时效不改变ZA27合金的阻尼特性,但显著提高了合金的阻尼。; 李合琴何晓雄董旭; 关键词：固溶时效显微组织

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