陕西省教育厅科研计划项目(06JK278)
- 作品数：3 被引量：9H指数：2
- 相关作者：刘卫国秦文罡田玉祥张伟高爱华更多>>
- 相关机构：西安工业大学西北工业大学西安电子科技大学更多>>
- 发文基金：陕西省教育厅科研计划项目西安工业大学校长基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信理学更多>>
- 氧气气氛对氧化铪薄膜性能的影响被引量：4
- 2009年
- 在有氧和无氧气氛条件下,采用真空电子束热蒸发技术在P-Si(100)硅衬底上制备了HfO2薄膜.利用X射线光电子能谱,对薄膜的化学组分进行表征,利用椭偏法对薄膜的膜厚和折射率进行测定,利用紫外可见光谱测量了薄膜的在200 nm^1 200 nm范围内的光透过率,并计算出其光学能隙,利用C-V测试系统对退火后薄膜的介电性能进行测试.结果表明,有氧和无氧条件下制备的薄膜中组分含量存在明显差异,相比于无氧条件下制备的薄膜,有氧条件下制备的薄膜中含有较少的铪单质,因而在可见光范围内具有较高透光率和光学能隙,较低的折射率和更优异的介电性能.
- 惠迎雪杨陈田玉祥徐均琪
- 关键词：电子束蒸发HFO2薄膜透过率椭偏仪C-V特性
- 非晶硅薄膜的沉积速率研究被引量：1
- 2008年
- 利用PECVD方法在硅片上制备了非晶硅薄膜,通过正交实验得出影响薄膜沉积速率和折射率的主要参数为气体流量和射频功率,分别研究了这两个参数对沉积速率和折射率的影响。结果表明:当气体流量低于240 sccm时,薄膜沉积速率随气体流量增加而增加,而折射率则随之减小;当流量大于240 sccm时,沉积速率出现饱和,折射率的变化并不明显。当射频功率低于120 W时,薄膜沉积速率随着功率的提高而增大,而折射率则随之减小;当功率大于120 W并进一步提高时,沉积速率成下降趋势,折射率则随之增大。
- 周顺秦文罡叶林刘卫国
- 关键词：非晶硅等离子体化学气相沉积沉积速率折射率
- 热释电探测器特性参数动态响应测量被引量：4
- 2007年
- 分析了热释电探测器对单脉冲辐射的响应,并组建了热释电探测器特性参数动态响应测试系统,利用相关检测原理检测热释电探测器的电压响应信号,提高了信噪比.设计了基于LabVIEW的测试软件,用此系统测试了热释电探测器对脉冲辐射的电压响应率Rv和归一化探测率D*,为热释电探测器参数测试提供了一种实用的全自动测试手段.
- 高爱华刘卫国张伟秦文罡
- 关键词：热释电探测器特性参数LABVIEW
