国家自然科学基金(11004020) 作品数:4 被引量:3 H指数:1 相关作者: 梁红伟 宋世巍 杜国同 柳阳 申人升 更多>> 相关机构: 大连理工大学 中国科学院 吉林大学 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 国家教育部博士点基金 国家高技术研究发展计划 更多>> 相关领域: 理学 一般工业技术 电子电信 更多>>
不同Sb含量p-SnO_2薄膜的制备和特性 2015年 采用化学气相沉积方法,利用Sb_2O_3/Sn O作为源材料,在蓝宝石衬底上制备出不同Sb掺杂量的SnO_2薄膜,并在此基础上制作出p-SnO_2:Sb/n-SnO_2同质p-n结器件.研究表明,随着Sb含量的增加,样品表面变得平滑,晶粒尺寸逐渐增大,且晶体质量有所改善,发现少量Sb的掺入可以起到表面活化剂的作用.Hall测量结果证实适量Sb的掺杂可以使SnO_2呈现p型导电特性,当Sb_2O_3/SnO的质量比为1:5时,其电学参数为最佳值.此外,p-SnO_2:Sb/n-SnO_2同质p-n结器件展现出良好的整流特性,其正向开启电压为3.4 V. 冯秋菊 刘洋 潘德柱 杨毓琪 刘佳媛 梅艺赢 梁红伟关键词:化学气相沉积 SNO2薄膜 衬底弯曲度对GaN基LED芯片性能的影响 2013年 利用低压MOCVD系统在弯曲度值不同的蓝宝石衬底上生长了GaN基LED外延结构并制作芯片。测量了芯片的主要电学和光学参数,并分析了衬底弯曲度值对芯片性能的影响。分析结果表明:存在弯曲度的衬底预先弛豫了外延层中的部分应力,改善了外延层的质量,从而提高了LED芯片的性能。随着衬底弯曲度值的逐渐增加,下层GaN对有源层中InGaN材料的压应力作用不断减小,导致芯片的主波长逐渐发生蓝移。 杨德超 梁红伟 邱宇 宋世巍 申人升 柳阳 夏晓川 俞振南 杜国同关键词:GAN LED 残余应力 SiN插入层对GaN外延膜应力和光学质量的影响(英文) 被引量:3 2013年 研究了MOCVD系统中原位SiN插入层对GaN薄膜应力和光学性质的影响。采用SiN插入层后,GaN薄膜的裂纹数量大大减少,薄膜所承受的张应力得到了一定的释放。同时,GaN薄膜的缺陷密度降低一倍,晶体质量得到了极大的改善。研究表明,位错密度的降低在GaN薄膜中留存较大的残余应力,补偿了降温过程中所引入的张应力。同样,随着SiN插入层的应用,低温PL谱的半峰宽降低,薄膜光学质量提高。最后研究了PL谱发光峰与应力的关系,得到了一个-13.8的线性系数。 宋世巍 梁红伟 申人升 柳阳 张克雄 夏晓川 杜国同关键词:SIN 应力弛豫 低温插入层对绿光LED的发光影响(英文) 2013年 利用MOCVD技术在蓝宝石衬底上外延生长了具有低温插入层结构的绿光LED,研究了具有插入层结构的LED的发光特性。插入层的引入增加了In在量子阱中的并入,并且引起了波长红移。经过分析,认为是In的相分离和极化场带来的红移,且恶化了器件的性能。 宋世巍 柳阳 梁红伟 夏小川 张克雄 杨德超 杜国同关键词:LED