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国家高技术研究发展计划(2002AA311170)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:金鹏王占国叶小玲李凯李若园更多>>
相关机构:中国科学院北京工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇GAAS
  • 1篇量子
  • 1篇量子环
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇AL
  • 1篇AL2O3
  • 1篇GA
  • 1篇INAS
  • 1篇INTERF...
  • 1篇X

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇北京工业大学

作者

  • 2篇王占国
  • 2篇金鹏
  • 1篇郭霞
  • 1篇李凯
  • 1篇叶小玲
  • 1篇陈敏
  • 1篇张春玲
  • 1篇李若园

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
Wet Oxidation of Al_x Ga_(1-x)As/GaAs Distributed Bragg Reflectors被引量:1
2005年
The wet oxidation of AlGaAs with high Al content in a distributed Bragg reflectors (DBR) is studied by scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM). Some voids distribute along the oxide/GaAs interfaces due to the stress induced by the wet oxidation of the AlGaAs layers. These voids decrease the shrinkage of the Al2O3 layers to 8% instead of the theoretical 20% when compared to the unoxidized AlGaAs layers. With the extension of oxidation time, the reactants are more completely transported to the front interface and the products are more completely transported out along the porous interfaces. As a result,the oxide quality is better.
李若园王占国徐波金鹏张春玲郭霞陈敏
关键词:AL2O3INTERFACE
GaAs基上的InAs量子环制备被引量:2
2006年
在分子束外延系统中,利用3nmGaAs薄盖层将InAs自组装量子点部分覆盖,然后在500°C以及As2气氛中退火一分钟,制成纳米尺度的InAs量子环。这一形成敏感地依赖于退火时的生长条件和生长InAs自组装量子点时的淀积量。InAs在GaAs表面的扩散以及同时发生的In-Ga互混控制着InAs量子环的形成。
李凯叶小玲金鹏王占国
关键词:分子束外延
共1页<1>
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