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教育部“春晖计划”(Z2004-2-15301)
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1
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相关作者:
白红亮
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王威
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2007
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CH_x(x=0~4)在γ-Al_2O_3(110D)表面吸附的密度泛函研究
2007年
使用基于密度泛函理论(DFT)的Castep量子力学计算程序模块,对CHx(x=0-4)在γ-Al2O3(110D)表面吸附的位置,空间结构和能量进行了理论计算.计算结果表明,CHx(x=0-3)与表面形成强的相互作用.CH3,CH2物种处于表面八面体铝的正上方时,结构最为稳定;CH,C物种处在表面八面体铝和三配位氧的桥键位置时,体系的总能量最低.而CH4只与γ-Al2O3(110D)表面发生非常弱的相互作用,构成物理吸附.布居分析表明CHx(x=0-3)与表面作用时电子从表面向CHx转移.
图雅
王小晶
王威
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