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国家自然科学基金(60506017)

作品数:4 被引量:6H指数:1
相关作者:韩伟华杨富华张杨樊中朝汤圆美树更多>>
相关机构:中国科学院北海道大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 1篇电子领域
  • 1篇电子器件
  • 1篇电子束光刻
  • 1篇电子束曝光
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米光电子器...
  • 1篇晶体
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇光电子领域
  • 1篇光电子器件
  • 1篇光刻
  • 1篇光子
  • 1篇光子晶体
  • 1篇NANOST...
  • 1篇SILICO...
  • 1篇TRANSI...
  • 1篇BASED
  • 1篇DEPEND...
  • 1篇DETECT...

机构

  • 4篇中国科学院
  • 1篇北海道大学

作者

  • 4篇韩伟华
  • 3篇杨富华
  • 2篇张杨
  • 1篇樊中朝
  • 1篇葛西诚也
  • 1篇王颖
  • 1篇杨香
  • 1篇汤圆美树

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇物理
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
4 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
Detection of Terahertz Photon by GaAs-Based Single Electron Transistor at Low Temperatures
2007年
A reproducible terahertz (THz) photocurrent was observed at low temperatures in a Schottky wrap gate single electron transistor with a normal-incident of a CH3OH gas laser with the frequency 2.54THz. The change of source-drain current induced by THz photons shows that a satellite peak is generated beside the resonance peak. THz photon energy can be characterized by the difference of gate voltage positions between the resonance peak and satellite peak. This indicates that the satellite peak exactly results from the THz photon-assisted tunneling. Both experimental results and theoretical analysis show that a narrow spacing of double barriers is more effective for the enhancement of THz response.
韩伟华汤圆美树葛西诚也
硅基单电子晶体管的制备
2006年
硅基单电子晶体管是一种极具潜力的新型量子器件。大多数硅基单电子晶体管的制备方法可以很好地与主流的CMOS工艺兼容。介绍了硅基单电子晶体管一些典型的具体制备工艺和方法以及该领域近年来的研究热点。
张杨韩伟华杨富华
关键词:电子束曝光
微纳加工技术在光电子领域的应用被引量:6
2006年
纳米光电子器件正在成为下一代光电子器件的核心.文章介绍了电子束光刻和电感耦合等离子体刻蚀为代表的微纳加工技术在光电子学器件中的应用,主要包括量子点激光器、量子点THz探测器和光子晶体器件.
韩伟华樊中朝杨富华
关键词:纳米光电子器件电子束光刻光子晶体
Monostable-Bistable Transition Logic Element (MOBILE) Model for Single-Electron Transistors
The traditional monostable-bistable transition logic element(MOBILE) structure is usually composed of resonant...
Ying WangWeihua HanXiang YangJianjun ChenFuhua Yang
Fabrication of Silicon Crystal-Facet-Dependent Nanostructures by Electron-Beam Lithography
2008年
Silicon crystal-facet-dependent nanostructures have been successfully fabricated on a (100)-oriented silicon-oninsulator wafer using electron-beam lithography and the silicon anisotropic wet etching technique. This technique takes advantage of the large difference in etching properties for different crystallographic planes in alkaline solution. The minimum size of the trapezoidal top for those Si nanostructures can be reduced to less than 10nm. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) observations indicate that the etched nanostructures have controllable shapes and smooth surfaces.
杨香韩伟华王颖张杨杨富华
共1页<1>
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