东莞市科研发展专项基金(2003D1011)
- 作品数:2 被引量:17H指数:2
- 相关作者:李松张同俊孙荣幸戴伟更多>>
- 相关机构:华中科技大学更多>>
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- 相关领域:金属学及工艺更多>>
- 射频磁控溅射法制备TiB_2涂层及其性能分析被引量:14
- 2006年
- 利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层。采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态。同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征。结果表明,利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低。
- 孙荣幸张同俊戴伟李松
- 关键词:射频磁控溅射TIB2涂层残余应力
- 纳米结构TiB_2涂层的制备及性能被引量:5
- 2006年
- 利用射频磁控溅射技术在冷作模具钢片上沉积了TiB2涂层。分别采用场发射扫描电子显微镜和小掠射角X射线衍射方法研究了涂层横截面的形貌和晶体结构,并对涂层的纳米硬度和摩擦性能进行了表征。结果表明,TiB2涂层的厚度均匀,结构致密,沿(001)晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,耐磨性能好。
- 孙荣幸张同俊戴伟李松
- 关键词:射频磁控溅射TIB2涂层