河南省杰出人才创新基金(074100510015)
- 作品数：2 被引量：2H指数：1
- 相关作者：吴养洁许文俭李铁生任方方付鸿更多>>
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- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 利用Langmuir技术构筑的光抗蚀剂聚合物纳米薄膜的表面微观结构及在光刻蚀方面的应用(Ⅰ):气液界面上聚合物单分子膜表面行为的研究被引量：2
- 2009年
- 合成了含有缩酮保护基团的共聚物聚N-十二烷基丙烯酰胺/1.4-二噁螺环[4,4]壬烷-2-亚甲基甲基丙烯酸酯pDDMA/DNMMA,并用Langmuir技术构建了单层和多层纳米超薄膜,用表面压(π)和静态弹性模量(Es)随平均重复单元面积(A)的变化研究了聚合物在气/液界面上的表面行为。研究结果表明,共聚物pDDMA/DNMMA能在水面上紧密排列,形成稳定的分子取向规整的Langmuir分子膜,其单层膜的厚度为1.6nm;分子的主链平躺在水面上,分子的侧链基团以与水面呈62°夹角向上伸展。与π-A曲线相比,Es-A曲线能更清楚直观地反映单分子层在挤压过程中微观结构的变化。Es-π曲线的研究为优化拉膜工艺条件提供了可靠依据。排列紧密的单分子膜在一定的表面压下,可单层、多层均匀的转移到固体基板上,形成规整有序层状结构的LB膜。
- 许文俭李铁生任方方吴养洁
- 关键词：LANGMUIR膜单分子层
- 利用Langmuir技术构筑的光抗蚀剂聚合物纳米薄膜的表面微观结构及在光刻蚀方面的应用(Ⅱ):用深紫外诱导的含缩酮共聚物的光刻和光化学反应
- 2009年
- 用AFM、UVvis、FTIR、GPC和石英晶体微天平(QCM)对以十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)为成膜物质,以1,4-二噁螺环[4,4]壬烷-2-亚甲基甲基丙烯酸酯(DNMMA)为光敏感物质的共聚物(pDDMA-DNMMA)LB膜的光刻过程及光分解机理进行了初步探讨。实验结果表明,在深紫外光源照射下,聚合物分子的主链和侧链发生分解反应,生成能挥发、易溶解的链碎片,用碱溶液显影后,可得到分辨率为0.75μm(所用掩膜所能达到的最大分辨率)的抗蚀剂LB膜正型图形。以这种共聚物LB膜图形为抗蚀层,经湿法腐蚀、除去抗蚀层等工序,可将抗蚀剂图形较好地转移到金薄膜上,得到具有相同分辨率的金属金的转移图形。
- 许文俭宁建中付鸿李铁生吴养洁
- 关键词：光分解光刻
