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作品数： 127被引量：243H指数：9

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AIN薄膜的成分、相结构和氧化性能被引量：7: 1995年; 用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）剥层分析方法，研究ＡＩＮ薄膜在大气中加热时的氧化性能．结果表明，常温时ＡＩＮ薄膜稳定；在７００℃加热时，Ａｌ２Ｏ３膜开始增厚．ＡＩＮ被氧化；加热温度愈高，ＡＩＮ被氧化得愈剧烈．; 夏立芳王佐诚孙跃马欣新陈士芳; 关键词：靶材氮化铝

一种聚酰亚胺/碳纤维X射线窗口薄膜及其制备方法: 一种聚酰亚胺/碳纤维X射线窗口薄膜及其制备方法，它涉及X射线应用的材料测试领域，具体涉及一种X射线窗口薄膜及其制备方法。本发明的目的是要解决现有技术制备的铍窗口因有毒不能在裸露空气中使用，且加工困难的问。聚酰亚胺/碳纤维...; 费维栋冯宇孙跃王秒; 文献传递

大尺寸梯度铝含量铁铬铝ODS合金薄板材料、制备方法及应用: 大尺寸梯度铝含量铁铬铝ODS合金薄板材料、制备方法及应用，本发明是为了解决现有热防护系统金属蜂窝结构层板抗氧化性能和可焊接性能不能兼顾的问题。本发明材料厚度为10-300um，直径为1000mm，薄板一侧由Cr、Al、Y...; 李明伟林秀宋广平孙跃赫晓东赵轶杰钟业盛; 文献传递

GCr15钢等离子体基离子注入Ti和C混合层的XPS研究被引量：5: 1999年; 用X射线光电子谱研究了GCr15轴承钢不平衡磁控溅射沉积Ti,继之等离子体基离子注入碳的等离子体基离子注入混合层的C ,Ti浓度深度分布及其化学结构。表明混合层的最表层为碳沉积层 ,其C 1s谱峰呈类金刚石特征 ,喇曼光谱肯定了这一特征。碳沉积层下面为C Ti混合区 ,Ti和C各以游离态和化合物态存在。混合层内Ti和C浓度沿层深连续变化 ,无突变区。; 孙明仁夏立芳孙跃马欣新李光张振信; 关键词：等离子体基 XPS

脉冲偏压对等离子体沉积DLC膜化学结构的影响被引量：4: 2002年; 以乙炔为气源,用等离子体基脉冲偏压沉积(plasmabasedpulsdbiasdeposition缩写PBPBD)技术进行了不同负脉冲偏压条件下制备DLC膜的试验.通过X射线光电子谱(XPS)、激光喇曼光谱〔Raman〕以及电阻分析方法考察了负脉冲偏压幅值对DLC膜化学结构的影响.结果表明由-50kV到-10kV随负脉冲偏压降低,DLC膜中SP3键分数单调增加,但当脉冲偏压为0时形成高电阻的类聚合物膜,说明荷能离子的轰击作用是形成DLC化学结构的必要条件.键角混乱度和SP2簇团尺寸与脉冲偏压之间不具有单调关系,在中等幅值负脉冲偏压条件下,键角混乱度较大且SP2簇团尺寸细小.; 孙明仁夏立芳孙跃马欣新孙立海; 关键词：脉冲偏压 DLC膜化学结构类金刚石碳膜

用于热防护系统的金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板: 用于热防护系统的金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板，它涉及一种金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板。本发明的目的是解决现有热防护系统中使用陶瓷防热瓦存在质脆、易脱落、吸水、不防雨、易变形及金属材料不利于间隙的密封以及热防护系统在飞行器...; 李明伟赵轶杰曾岗何飞史丽萍赫晓东孙跃; 文献传递

用于热防护系统的金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板: 用于热防护系统的金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板，它涉及一种金属蜂窝结构与陶瓷结合的盖板。本发明的目的是解决现有热防护系统中使用陶瓷防热瓦存在质脆、易脱落、吸水、不防雨、易变形缺点及金属材料不利于间隙的密封。下层板的上表面与...; 李明伟何飞赵轶杰曾岗史丽萍赫晓东孙跃

Al/Ni反应叠层箔的研究进展: 2016年; Al/Ni反应叠层箔具有高能量密度特征,并可以由自蔓延反应方式快速释放此能量,所伴随的显著温升现象对于特种焊接具有重要意义。采用不同制备技术获得的Al/Ni反应叠层箔的组织结构特征各异,其自蔓延反应动力学特征亦有所不同。迄今所开展的相应反应热、生成相顺序及自蔓延速率的探索已获得了较为丰富的研究成果,为Al/Ni反应叠层箔工程应用的前期研究提供了重要支撑。; 孙跃芦强强宋广平雍志鹏赫晓东; 关键词：自蔓延

铝合金表面氮和钛等离子体基离子注入改性层XPS研究被引量：3: 2002年; 用XPS(X射线光电子能谱 )和GXRD(小掠射角X射线衍射 )研究了铝合金等离子体基离子注入氮再注入钛最后复合注入氮和钛改性层的成分分布及相结构 ,并用Gaussian Lorentzion峰位拟合方法分析了改性层中不同深度处各元素的化学态及其在相结构中的分布。结果表明 ,复合改性层的表层有较高浓度的氮和钛 ,次表层有较高浓度的钛及一定浓度的氮 ,铝 /钛界面有较宽的过渡区 ,基体中氮呈高斯分布。改性层主要由TiN ,TiO2 ,α Ti,TiAl3 ,Al2 O3 和AlN等组成 ,氮和氧还以固溶态的形式存在。最表层含有大量TiN及部分TiO2 ;次表层含有大量α Ti及许多TiN ;过渡层由TiO2 ,TiN ,TiAl3 ,Al2 O3 和AlN等组成 ;注氮层包括AlN ,Al2 O3 及α(Al)。各元素在相应相结构中的浓度分布与其成分深度分布基本相似。; 廖家轩夏立芳孙跃颜朝晖; 关键词：铝合金离子注入 XPS

EB-PVD工艺参数对沉积Ti-Al薄板的影响: 2010年; 为了获得采用EB-PVD技术制备Ti-Al薄板的合理工艺参数,分析了Ti-Al薄板在实际试验条件下的蒸发与沉积过程.采用相关热学理论,结合分析试验的方法并依照EB-PVD工艺特点,对蒸气粒子的传输、饱和蒸气压对蒸发原子的影响以及Al的再蒸发进行了研究.结果表明:EB-PVD工艺制备Ti-Al薄板的最佳靶基距为280mm;饱和蒸气压的差异使得材料截面呈现分层特征;加入Nb片可以减小由于Ti、Al的蒸发速率差异导致的沉积材料与靶材之间的成分偏差,Al在基板上的2次蒸发可忽略不计.工艺参数的合理设计及在熔池中添加Nb金属,能够提高Ti-Al薄板的沉积速率,并降低由于元素饱和蒸气压的差别对成分偏析的影响.; 马李滕敏孙跃赫晓东; 关键词：电子束物理气相沉积平均自由程饱和蒸气压