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- 一种CVD金刚石膜及其制备方法
- 本发明提供了一种CVD金刚石膜及其制备方法，所述的制备方法包括如下步骤：（1）在基底上采用第一生长工艺持续第一生长时长得到CVD金刚石晶种；（2）采用第二沉积工艺在步骤（1）得到的CVD金刚石晶种上进行第二生长时长的沉积...
- 王博张长安袁俊赵利民宋永一
- 一种大面积CVD金刚石膜抛光方法及抛光装置
- 一种大面积CVD金刚石膜抛光方法，包括如下步骤：S1、将使用电弧法生产的金刚石膜切去沟边，表面研磨加工后金刚石膜表面粗糙度Sa<SUB>0</SUB>降低至200nm以下；S2、预抛光：将经由步骤S1处理的金刚石膜固定在...
- 仝婷婷张平伟董林崔玉明
- CVD金刚石膜研究进展
- 2024年
- 金刚石由于其优异的声、光、电、热和力学性能,是重要的功能材料之一。金刚石的制备方法主要有高温高压方法和低压化学气相沉积方法。化学气相沉积法因制备得到的样品质量高、面积大,设备简单、可规模化等特性,是合成金刚石膜的重要方法。为了实现低合成压力条件下的金刚石膜的均匀、快速、大尺寸、高质量生长,目前研究人员在金刚石低压生长的控制方面做出了深入的研究。文章综述了近年来化学气相沉积法(包括热丝CVD法、离子体增强CVD法、燃烧火焰CVD法)生长金刚石膜的研究进展,包括金刚石膜的生长机理、关键设备、关键工艺参数等。此外,还详细讨论了生长过程中的关键工艺参数与金刚石膜生长速率和质量的关系,这些对化学气相沉积制备金刚石膜的研究、生产至关重要。
- 权乐
- 关键词：金刚石膜化学气相沉积等离子体增强化学气相沉积热丝化学气相沉积气相沉积
- CVD金刚石膜生长装置及方法
- 本发明公开了一种CVD金刚石膜生长装置及方法，该装置包括：反应腔，其为圆柱形空腔且沿空腔周向均匀设置多个独立控制的气体入口；该气体入口通入氢气和含碳气体的混合气，或，纯氢气；衬底，其作为金刚石膜生长基体，该基体呈扇形且为...
- 赵利民张长安王博张舒冬袁俊
- 电弧法CVD金刚石膜热学性能影响因素分析被引量：1
- 2023年
- 金刚石具有极高热导率和超强稳定性,使其在高频大功率器件及电路热沉(散热片)等方面有很大应用前景。在众多金刚石材料制备方法中,电弧法金刚石沉积速度快,沉积面积大且晶体质量相对较高,非常适用于金刚石散热材料快速制备。本文基于金刚石电弧制备方法,主要论述晶界状态、生长工艺、杂质和缺陷等方面对CVD金刚石膜热学性能的影响情况,并提出改善措施建议。
- 郭建超张雄文靳士昌邓冀泽冯志红
- 关键词：电弧法金刚石热学性能影响因素
- 一种CVD金刚石膜及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种CVD金刚石膜及其制备方法和应用。该CVD金刚石膜包括依次交替排列的刚性生长层和柔性增韧层；所述刚性生长层为SP3杂化金刚石相；所述柔性增韧层为SP3杂化金刚石相和SP2杂化石墨相的混合相；所述刚性生长层...
- 王博张长安赵利民袁俊宋永一
- 一种高韧性CVD金刚石膜及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种高韧性CVD金刚石膜及其制备方法和应用。该CVD金刚石膜内部全部为SP3杂化金刚石相，所述SP3杂化金刚石相为多晶结构。本发明提供的高韧性CVD金刚石膜及其制备方法和应用。本发明的CVD金刚石膜具有良好的...
- 王博张长安赵利民袁俊张舒冬
- CVD金刚石膜激光平整化效率和粗糙度被引量：4
- 2022年
- 对化学气相沉积(CVD)多晶金刚石膜进行激光平整化的正交试验,使用场发射环境扫描电子显微镜(SEM)进行形貌分析,激光共聚焦扫描显微镜测量线粗糙度R_(a)、面粗糙度S_(a)和切缝锥度,分析激光参数对CVD膜平整化的影响。结果表明:影响切缝锥度的因素依次为脉冲宽度、脉冲频率、进给速度和激光电流,影响线粗糙度Ra的因素依次为进给速度、激光电流、脉冲频率、脉冲宽度。正交试验优化后,当激光电流为64 A、脉冲宽度为400μs、脉冲频率为275 Hz、进给速度为100 mm/min时,可获得最佳的切槽表面形貌。采用该优化参数进行面扫描,测得面粗糙度S_(a)为11.7μm;进一步增加入射角度至75°时,面粗糙度S_(a)降低至1.9μm,实际去除效率达到1.1 mm^(3)/min。
- 李世谕安康邵思武黄亚博张建军郑宇亭陈良贤魏俊俊刘金龙李成明
- 关键词：CVD金刚石膜面粗糙度机械研磨
- 一种半开放式反应气循环的热丝CVD金刚石膜生长装置
- 本实用新型公开了一种半开放式反应气循环的热丝CVD金刚石膜生长装置，包括：反应炉、混气装置和气体循环系统，所述混气装置通过第一供气管道与反应炉连接，所述气体循环系统的进气端与反应炉排气口连接，第二供气管道通过循环管路与混...
- 王偲偲许晶
- CVD金刚石膜辐射探测器的研制与性能研究
- 随着核技术的广泛应用，核辐射探测器所面临的应用环境也变得越来越苛刻。辐射防护及辐射环境的安全可控也变得越来越重要。传统的半导体材料如硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等制成的半...
- 许平
- 关键词：金刚石膜
相关作者
- 吕反修
- 作品数：312被引量：811H指数：14
- 供职机构：北京科技大学
- 研究主题：金刚石膜 金刚石 金刚石薄膜 CVD 化学气相沉积
- 左敦稳
- 作品数：1,095被引量：2,453H指数：19
- 供职机构：南京航空航天大学
- 研究主题：金刚石 磨料 金刚石膜 搅拌摩擦焊 抛光垫
- 徐锋
- 作品数：310被引量：407H指数：10
- 供职机构：南京航空航天大学
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- 卢文壮
- 作品数：256被引量：341H指数：10
- 供职机构：南京航空航天大学
- 研究主题：金刚石膜 金刚石 磨料 衬底 CVD金刚石膜
- 汪建华
- 作品数：372被引量：850H指数：12
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院
- 研究主题：化学气相沉积 金刚石薄膜 金刚石膜 微波等离子体 金刚石
