公共文化服务平台

2025年4月28日星期一

|

欢迎来到佛山市图书馆•公共文化服务平台

登录 | 注册 | 进入后台

搜索到53篇“ 衰减相移掩模“的相关文章

一种衰减相移掩模分析方法及装置: 本申请提供了一种衰减相移掩模分析方法及装置。在执行方法时，先将待仿真的衰减相移掩模结构在垂直于表面的方向上划分成若干个层，后将若干个层的每一层视为沿垂直于表面的方向上的波导，基于若干个层建立波导模型，然后对波导模型求解得...; 李晨董立松韦亚一

衰减相移掩模版及其制程方法: 本申请提供一种衰减相移掩模版及其制程方法，涉及半导体制程技术领域。本申请通过提供包括相对设置的第一表面及第二表面的透明基板，接着在透明基板的第一表面上形成遮光膜层，并遮光膜层上蚀刻出用于表示目标掩模图案的图案沟槽，得到待...; 陈庆煌柯思羽刘志成王见明

双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法: 本发明提供一种双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n；步骤二、求解各衍射级次的波矢量沿着切向和法向的分量；步骤三、将每一层光栅的介电常数进行傅里叶Fourier级...; 李艳秋杨亮; 文献传递

带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法: 本发明提供一种带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n，并确定光栅坐标；步骤二、将包含辅助线条的光栅层介电常数进行Fourier级数展开；其中对TM偏振光，通过...; 李艳秋杨亮; 文献传递

双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法: 本发明提供一种双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n；步骤二、求解各衍射级次的波矢量沿着切向和法向的分量；步骤三、将每一层光栅的介电常数进行傅里叶Fourier级...; 李艳秋杨亮

带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法: 本发明提供一种带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n，并确定光栅坐标；步骤二、将包含辅助线条的光栅层介电常数进行Fourier级数展开；其中对TM偏振光，通过...; 李艳秋杨亮

校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法: 提供了适用于校正三色调衰减相移掩模中的光邻近效应的结构和方法。衰减边由不透明区域和衰减相移区域形成，它可以在整个掩模中和对某些类型的结构保持着预定的宽度。典型的是，衰减边尽可能大地制成，以最大化衰减相移区域的效果，同时也...; C·皮埃拉特Y·张; 文献传递

三色调衰减相移掩模的自对准制造技术: 提供一种结构和方法以保证三色调衰减相移掩模的自对准制造。沿一个不透明区域的边缘设置一个0度相位，大于90%透射的亚分辨率边缘。该亚分辨率边缘和掩模的不透明和衰减区域的对准在一个单独的图形形成步骤中进行。在一个实施例中，一...; C·皮埃拉; 文献传递

有可调透光率的嵌入式衰减相移掩模: 可以独立地选取嵌入式衰减相移掩模(EAPSM)的衰减和相移性质。在挖去嵌入式相移层的区域时或之后，基片的曝光区被蚀刻到预定的深度。然后，嵌入式相移层的附加区域被曝光并修整到预定的厚度，用于提供所需的衰减量，其中基片的最终...; 肖广明; 文献传递

衰减相移掩模坯体和光掩模: 本发明涉及用在曝光波长为300nm或更低的平版印刷中的嵌入式衰减相移掩模坯体，以及通过离子束沉积制备这种掩模坯体的方法。具体而言，掩模坯体包含基片和薄膜系统，其中薄膜系统包含透射控制子层和相移控制子层，透射控制子层包含选...; H·贝克U·布特格赖特G·赫斯O·格茨伯格F·施密德特F·佐贝尔M·伦诺; 文献传递

加载更多 ∨

相关作者

张锦: 作品数：139被引量：233H指数：8; 供职机构：西安工业大学光电工程学院; 研究主题：光刻系统干涉光刻光刻光刻技术激光干涉

冯伯儒: 作品数：109被引量：225H指数：9; 供职机构：中国科学院光电技术研究所; 研究主题：光刻相移掩模光刻系统干涉光刻掩模

侯德胜: 作品数：63被引量：142H指数：6; 供职机构：中国科学院光电技术研究所; 研究主题：相移掩模光刻激光直写光刻掩模衰减相移掩模

孙方: 作品数：9被引量：4H指数：2; 供职机构：中国科学院光电技术研究所; 研究主题：衰减相移掩模相移掩模光致抗蚀剂光刻分辨率 KRF准分子激光

李艳秋: 作品数：444被引量：338H指数：11; 供职机构：北京理工大学; 研究主题：掩模极紫外光刻光源光刻系统投影物镜