搜索到5490篇“ 等离子体增强化学气相沉积“的相关文章
- 碳硬掩模的等离子体增强化学气相沉积
- 在一个或多个实施例中，一种用于通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)来沉积碳硬掩模材料的方法包括：将容纳在工艺腔室内的基板加热到在从约100℃至约700℃的范围内的温度；以及用发出大于3kW的RF功率的功率发生器产生...
- B·S·权P·K·库尔施拉希萨K·D·李B·阿夫扎尔S·哈V·K·普拉巴卡尔V·卡尔塞卡尔S·托卡奇丘爱德华四世·P·哈蒙德
- 一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备
- 本申请涉及等离子体镀膜技术领域，具体提供了一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备，该喷头包括：喷头本体，其具有等离子激发仓和反应仓；前驱体喷出管，位于反应仓内，其底部的高度小于进气口的高度；第一螺旋气流引导结...
- 孙鹏詹同道
- 氧气流量对等离子体增强化学气相沉积硅氧烷涂层的防原子氧性能的影响
- 2025年
- 低轨环境下的原子氧是造成聚酰亚胺薄膜被剥蚀失效的关键因素,硅氧烷涂层是对聚酰亚胺薄膜进行空间原子氧防护的重要手段。利用等离子体增强化学气相沉积的方法在聚酰亚胺薄膜基材上在不同氧气流量下制备了硅氧烷涂层,研究了氧气流量对涂层的沉积速率、断面形貌和成分的影响,对涂层样品开展了原子氧作用试验并测定了试验后的质量损失及表面形貌。研究结果表明,随着氧气流量的增加,涂层中的有机基团逐渐减少,同时SiO_(x)结构逐渐增多。经原子氧暴露试验发现,涂层中的有机基团易与原子氧发生反应形成气态产物,造成较高的质量损失,表现出涂层的质量损失随着氧气流量的增加呈现出指数衰减趋势。然而,过高的氧气流量下制备的涂层可能会具有较高的结构应力,使其在原子氧作用时产生裂纹,表现出质量损失的急剧升高。
- 王虎王兰喜周晖李学磊杨淼李坤倪壮李中华王志民左华平何延春
- 关键词：等离子体增强化学气相沉积硅氧烷涂层
- 固态源等离子体增强化学气相沉积设备及方法
- 本发明属于化学气相沉积技术领域，公开了一种固态源等离子体增强化学气相沉积设备及方法，设备包括：加热装置设置于真空腔室外壁并与固态源蒸发器位置对应；固态源蒸发器为封闭结构，其输气端口与气体喷淋头的中心线以及载气通气孔位于同...
- 张海牛鼎元赵学平杜赵新崔晓明
- 等离子体增强化学气相沉积装置
- 本申请实施例涉及镀膜技术领域，并提供一种等离子体增强化学气相沉积装置。该等离子体增强化学气相沉积装置包括反应腔体、间隔且交替地布置在反应腔体内的激励电极板和接地电极板、与反应腔体连接并用于向处理空间提供反应气体的气体提供...
- 何艾华朱太荣张武
- 一种等离子体增强化学气相沉积设备及其操作方法
- 本发明提供了一种等离子体增强化学气相沉积设备及其操作方法，该设备包括反应腔室、保持晶圆在其上的载台；还设置有第一气管、第一阀门；还设置位于晶圆上方的喷头、将反应气体激发为等离子体的等离子体发生器；还设置有给等离子体发生器...
- 卞成洙白国斌高建峰王桂磊崔恒玮丁云凌
- 高密度等离子体增强化学气相沉积腔室
- 本公开内容涉及用于沉积腔室的喷头的方法和设备。在一个实施方式中，提供一种用于等离子体沉积腔室的喷头，所述喷头包括：多个穿孔砖，每个穿孔砖耦接于多个支撑构件中的一者或多者；和位于喷头内的多个电感耦合器，其中所述多个电感耦合...
- 元泰景李永东高建德桑杰伊·D·雅达夫崔寿永苏希尔·安瓦尔
- 等离子体增强化学气相沉积装置及方法
- 本申请提供了一种等离子体增强化学气相沉积装置及方法，涉及等离子表面处理技术领域。本申请能够在镀膜区形成第一电场和第一磁场，在第一电场的作用下镀膜气体会被电离成第一带电粒子和第一活性粒子，而第一带电粒子会在第一电场和第一磁...
- 黄超哲黄周师何坤鹏
- 等离子体增强化学气相沉积设备
- 本实用新型提供等离子体增强化学气相沉积设备。所述设备包括反应腔、反应腔盖、射频屏蔽罩、气体缓冲腔、晶圆基台、射频发生器以及射频匹配器，所述设备还包括射频馈入棒以及连接在所述气体缓冲腔中部的输入模块，所述射频馈入棒一端与所...
- 陈有生张印奇刘传生董家伟
- 一种等离子体增强化学气相沉积设备
- 本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，抽真空机构与反应机构相连通，移送机构将待处理产品送入或取出反应机构，反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，电极组件...
- 钱锋姚飞王小东廖运华梁锦东陈进福
