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离子束刻蚀
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
离子束
刻蚀
被引量:16
1999年
介绍了几种常用的干法
刻蚀
技术的机理,重点介绍了
离子束
刻蚀
的基本原理,给出了55种不同材料在500eV能量1mA/cm2
束
流密度条件下的
刻蚀
速率,并给出了
刻蚀
速率随
束
流能量和
束
流密度增加而增加的试验结果和实际图形
刻蚀
的扫描电镜分析结果,对有关问题进行了讨论。
赵丽华
周名辉
王书明
李锦标
霍彩虹
周晓黎
关键词:
离子束刻蚀
干法刻蚀
半导体器件
离子束
刻蚀
机及其下电极结构
本发明公开了一种
离子束
刻蚀
机及其下电极结构,该下电极结构包括电极板、压环机构和升降机构,所述压环机构用于支撑待
刻蚀
件,所述升降机构用于驱动所述压环机构相对所述电极板升降;还包括位置检测机构,所述位置检测机构用于检测所述压...
张怀东
张瑶瑶
胡冬冬
杨超全
程实然
于翔
石小丽
许开东
一种具有终点检测功能的
离子束
刻蚀
系统
本发明公开了一种具有终点检测功能的
离子束
刻蚀
系统,
离子束
刻蚀
系统包括载台和聚焦环;载台包括晶圆承载面、厂务连接板和载台座,聚焦环包括固定部、环体和台阶部,环体通过固定部固定于载台上,台阶部下表面与环体外径相连,台阶部上表...
李雪冬
刘海洋
刘小波
朱小庆
许开东
陈璐
一种用于
离子束
刻蚀
冷却半导体制冷片
本实用新型涉及
离子束
刻蚀
技术领域,提出了一种用于
离子束
刻蚀
冷却半导体制冷片,包括:制冷片,制冷片设有两组,其特征在于,还包括:制冷箱、工作台、隔板、散热机构、扩散机构和缓冲机构,制冷箱上开设有散热口和操作口,工作台固定连...
王德新
一种用于超导器件超低温
离子束
刻蚀
工作台
本实用新型涉及
刻蚀
工作台技术领域,具体涉及一种用于超导器件超低温
离子束
刻蚀
工作台,包括工作台本体、底板、驱动槽、第一导热盘、导热柱、转动机构以及降温机构,底板固定设置在工作台本体上,驱动槽开设在工作台上,第一导热盘转动设...
刘旸
一种
离子束
刻蚀
控制系统
本发明涉及
离子束
刻蚀
技术领域,具体涉及一种
离子束
刻蚀
控制系统。该
离子束
刻蚀
控制系统包括安全检测模块、PLC控制模块、安全输入模块、安全控制模块、安全输出模块、
离子
源电源以及中和器电源,其中,安全检测模块用于检测
离子束
刻蚀
...
张海飞
李正磊
陈勇
纳秒激光复合
离子束
刻蚀
技术的CVD金刚石抛光研究
2025年
高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光复合
离子束
刻蚀
技术抛光CVD金刚石,开展了多晶CVD金刚石激光抛光实验研究,针对激光功率和扫描速度两种激光参数研究其对CVD金刚石烧蚀深度和表面粗糙度的影响,在此基础上对激光抛光后的CVD金刚石进行
离子束
蚀刻抛光,研究了
离子束
抛光下的金刚石表面粗糙度变化,并对
离子束
抛光后的金刚石表面成分进行分析。通过所述方法实现了CVD金刚石样品表面粗糙度从6.687μm降到0.804μm的优异的抛光效果。此研究提供了一种旨在红外窗口、微型铣床和航天航空等领域具有应用价值的金刚石抛光方法。
冯昱森
赵智炎
于颜豪
徐颖
徐地华
李爱武
关键词:
激光光学
CVD金刚石
粗糙度
一种IBE
离子束
刻蚀
装置
本发明公开了一种IBE
离子束
刻蚀
装置,包括:真空室,所述真空室上方安装真空泵组件,真空室后壁安装
离子束
发生装置,真空室左侧安装旋转驱动结构,真空室内部转动设置
刻蚀
载台,旋转驱动结构驱动连接
刻蚀
载台,真空室右侧壁开设晶圆进...
杜宝胜
罗瑞旭
孙家晟
一种IBE
离子束
刻蚀
装置
本发明公开了一种IBE
离子束
刻蚀
装置,包括:真空室,所述真空室上方安装真空泵组件,真空室后壁安装
离子束
发生装置,真空室左侧安装旋转驱动结构,真空室内部转动设置
刻蚀
载台,旋转驱动结构驱动连接
刻蚀
载台,真空室右侧壁开设晶圆进...
杜宝胜
罗瑞旭
孙家晟
一种
离子束
刻蚀
挡板装置
本发明公开了一种
离子束
刻蚀
挡板装置,属于半导体技术领域,包括反应腔体、载台片、挡板、挡板驱动件、
离子
源和固定罩,所述反应腔体的内部一端设有挡板,且挡板通过挡板驱动件进行控制;所述挡板设置于所述
离子
源的栅网口与所述载台片之...
汪明刚
张学飞
瞿鑫
贾中华
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洪义麟
作品数:187
被引量:404
H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
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付绍军
作品数:199
被引量:363
H指数:9
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
徐向东
作品数:143
被引量:359
H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
邱克强
作品数:351
被引量:558
H指数:10
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题:非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
刘颖
作品数:131
被引量:192
H指数:8
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
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