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离子束刻蚀被引量:16
1999年
介绍了几种常用的干法刻蚀技术的机理,重点介绍了离子束刻蚀的基本原理,给出了55种不同材料在500eV能量1mA/cm2流密度条件下的刻蚀速率,并给出了刻蚀速率随流能量和流密度增加而增加的试验结果和实际图形刻蚀的扫描电镜分析结果,对有关问题进行了讨论。
赵丽华周名辉王书明李锦标霍彩虹周晓黎
关键词:离子束刻蚀干法刻蚀半导体器件
离子束刻蚀机及其下电极结构
本发明公开了一种离子束刻蚀机及其下电极结构,该下电极结构包括电极板、压环机构和升降机构,所述压环机构用于支撑待刻蚀件,所述升降机构用于驱动所述压环机构相对所述电极板升降;还包括位置检测机构,所述位置检测机构用于检测所述压...
张怀东张瑶瑶胡冬冬杨超全程实然于翔石小丽许开东
一种具有终点检测功能的离子束刻蚀系统
本发明公开了一种具有终点检测功能的离子束刻蚀系统,离子束刻蚀系统包括载台和聚焦环;载台包括晶圆承载面、厂务连接板和载台座,聚焦环包括固定部、环体和台阶部,环体通过固定部固定于载台上,台阶部下表面与环体外径相连,台阶部上表...
李雪冬刘海洋刘小波朱小庆许开东陈璐
一种用于离子束刻蚀冷却半导体制冷片
本实用新型涉及离子束刻蚀技术领域,提出了一种用于离子束刻蚀冷却半导体制冷片,包括:制冷片,制冷片设有两组,其特征在于,还包括:制冷箱、工作台、隔板、散热机构、扩散机构和缓冲机构,制冷箱上开设有散热口和操作口,工作台固定连...
王德新
一种用于超导器件超低温离子束刻蚀工作台
本实用新型涉及刻蚀工作台技术领域,具体涉及一种用于超导器件超低温离子束刻蚀工作台,包括工作台本体、底板、驱动槽、第一导热盘、导热柱、转动机构以及降温机构,底板固定设置在工作台本体上,驱动槽开设在工作台上,第一导热盘转动设...
刘旸
一种离子束刻蚀控制系统
本发明涉及离子束刻蚀技术领域,具体涉及一种离子束刻蚀控制系统。该离子束刻蚀控制系统包括安全检测模块、PLC控制模块、安全输入模块、安全控制模块、安全输出模块、离子源电源以及中和器电源,其中,安全检测模块用于检测离子束刻蚀...
张海飞李正磊陈勇
纳秒激光复合离子束刻蚀技术的CVD金刚石抛光研究
2025年
高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光复合离子束刻蚀技术抛光CVD金刚石,开展了多晶CVD金刚石激光抛光实验研究,针对激光功率和扫描速度两种激光参数研究其对CVD金刚石烧蚀深度和表面粗糙度的影响,在此基础上对激光抛光后的CVD金刚石进行离子束蚀刻抛光,研究了离子束抛光下的金刚石表面粗糙度变化,并对离子束抛光后的金刚石表面成分进行分析。通过所述方法实现了CVD金刚石样品表面粗糙度从6.687μm降到0.804μm的优异的抛光效果。此研究提供了一种旨在红外窗口、微型铣床和航天航空等领域具有应用价值的金刚石抛光方法。
冯昱森赵智炎于颜豪徐颖徐地华李爱武
关键词:激光光学CVD金刚石粗糙度
一种IBE离子束刻蚀装置
本发明公开了一种IBE离子束刻蚀装置,包括:真空室,所述真空室上方安装真空泵组件,真空室后壁安装离子束发生装置,真空室左侧安装旋转驱动结构,真空室内部转动设置刻蚀载台,旋转驱动结构驱动连接刻蚀载台,真空室右侧壁开设晶圆进...
杜宝胜 罗瑞旭 孙家晟
一种IBE离子束刻蚀装置
本发明公开了一种IBE离子束刻蚀装置,包括:真空室,所述真空室上方安装真空泵组件,真空室后壁安装离子束发生装置,真空室左侧安装旋转驱动结构,真空室内部转动设置刻蚀载台,旋转驱动结构驱动连接刻蚀载台,真空室右侧壁开设晶圆进...
杜宝胜 罗瑞旭 孙家晟
一种离子束刻蚀挡板装置
本发明公开了一种离子束刻蚀挡板装置,属于半导体技术领域,包括反应腔体、载台片、挡板、挡板驱动件、离子源和固定罩,所述反应腔体的内部一端设有挡板,且挡板通过挡板驱动件进行控制;所述挡板设置于所述离子源的栅网口与所述载台片之...
汪明刚张学飞瞿鑫贾中华

相关作者

洪义麟
作品数:187被引量:404H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
付绍军
作品数:199被引量:363H指数:9
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
徐向东
作品数:143被引量:359H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
邱克强
作品数:351被引量:558H指数:10
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题:非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
刘颖
作品数:131被引量:192H指数:8
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻