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研磨装置
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
研磨
装置
本发明提供一种
研磨
装置
,能够防止
研磨
液的磨粒、工件的
研磨
屑附着于光学传感器头,提高工件的膜厚的测定精度。
研磨
装置
具备:
研磨
台(3),该
研磨
台支承形成有通孔(4)的
研磨
垫(2);光学膜厚测定系统(20),该光学膜厚测定系统...
木下将毅
盐川阳一
田上景太
研磨
装置
本发明提供一种
研磨
装置
,包括
研磨
垫和
研磨
台,
研磨
垫放置于
研磨
台上,
研磨
台带动
研磨
垫同步旋转;待加工晶圆,待加工晶圆需进行金属结构的
研磨
;晶圆固定
装置
,其用于固定待加工晶圆;
研磨
修整盘,
研磨
修整盘包括衬底,衬底上设置有隔离...
张磊
研磨
装置
本实用新型提供一种
研磨
装置
,包括:主支架;
研磨
组件,所述
研磨
组件包括:
研磨
机构以及与所述
研磨
机构相配合的料盒,所述料盒用于容纳待
研磨
物,所述
研磨
机构用于从所述料盒接收所述待
研磨
物并将所述待
研磨
物
研磨
成料粉;所述
研磨
机构具...
段亚飞
樊延安
研磨
装置
本发明提供一种
研磨
装置
,能够防止
研磨
液的磨粒、工件的
研磨
屑附着于光学传感器头,提高工件的膜厚的测定精度。
研磨
装置
具备:
研磨
台(3),该
研磨
台支承形成有通孔(4)的
研磨
垫(2);
研磨
头(1),该
研磨
头将工件(W)按压于
研磨
...
木下将毅
物料
研磨
装置
本公开涉及物料
研磨
装置
,包括
研磨
平台,所述
研磨
平台的顶部设有环形状的
研磨
槽,所述的
研磨
槽内活动放置有至少一个的铁质材料的
研磨
球,所述
研磨
槽的底部开设有至少一个贯穿
研磨
平台的通孔,每个所述的通孔内均安装有带多个筛孔的筛分板...
周建国
宋万军
白龙
王磊
张鑫
高敬文
张国强
吕波
物料
研磨
装置
本实用新型涉及电路板技术领域,公开了物料
研磨
装置
,包括两组呈对称设置的
研磨
机构:所述
研磨
机构包括
研磨
箱,所述
研磨
箱内腔固定连接有固定
研磨
板,所述固定
研磨
板的上方设置有活动
研磨
板,所述活动
研磨
板的上表面固定连接有多组伸缩套...
陈群
曾柳镇
郭少龙
双面
研磨
装置
本实用新型涉及一种双面
研磨
装置
,属于工件加工设备技术领域,包括机架本体,以及连接于机架本体上的滑台、上料组件、夹料组件、
研磨
组件和下料组件;所述上料组件和下料组件分别连接于滑台两侧,且上料组件的上料口与下料组件的下料口相...
邱少君
贾学宝
孙伟强
一种
研磨
装置
本发明涉及一种
研磨
机技术领域,具体涉及一种
研磨
装置
;其包括机架、旋转机构组、固定组件、工装座,机架上设有两个安装座;旋转机构组,具有多组,包括第一旋转机构和第二旋转机构,第一旋转机构和第二旋转机构相对应的分别固定安装在两...
陈军
张可夫
黄艳平
一种
研磨
装置
本实用新型涉及
研磨
装置
技术领域,具体地,涉及
研磨
装置
。其中,一种
研磨
装置
,包括:动力组件,一端设置有输出轴,所述输出轴上设置有
研磨
刀;容器组,设在所述动力组件靠近
研磨
刀的一侧,并且所述容器组与所述动力组件之间可拆装连接。...
赵鹏
一种
研磨
装置
本实用新型提供了一种
研磨
装置
,涉及机械加工技术领域,所述
研磨
装置
包括吊装杆及旋转工作台,吊装杆位于旋转工作台的上方,旋转工作台用于放置待
研磨
的凹面垫,凹面垫相对旋转工作台偏心设置,吊装杆的下端用于与待
研磨
的凸面垫摆动连接...
洪嵩源
王楼
郭人溥
刘桐柱
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相关作者
陈燕
作品数:396
被引量:325
H指数:15
供职机构:辽宁科技大学
研究主题:磁力研磨 磁粒研磨 磁极 磁力 研磨装置
韩冰
作品数:276
被引量:289
H指数:12
供职机构:辽宁科技大学
研究主题:磁力研磨 磁粒研磨 磁力 磁极 研磨装置
萧金瑞
作品数:359
被引量:63
H指数:5
供职机构:广州大学
研究主题:研磨 研磨加工 灌溉 轴承 轴承套圈
文东辉
作品数:506
被引量:753
H指数:15
供职机构:浙江工业大学
研究主题:抛光 动压 研磨盘 抛光装置 研磨
陈松
作品数:129
被引量:89
H指数:7
供职机构:辽宁科技大学
研究主题:磁粒研磨 磁力 磁性磨料 研磨装置 磁力研磨
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