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一种氮化物半导体激光器元件
本发明公开了一种氮化物半导体激光器元件,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层,所述下波导层与下限制层之间具有自束缚激子极化激元层,述自束缚激子极化激元层包括第一自束缚激子极化激元层和第二自...
寻飞林郑锦坚蓝家彬刘紫涵蔡鑫张会康邓和清李水清
一种氮化物半导体晶体管结构
本发明公开了一种氮化物半导体晶体管结构,其外延结构包括导电衬底,衬底上的成核层,所述成核层上方设置缓冲层,所述缓冲层上方设置有p型氮化物掩埋层,还包括p型氮化物掩埋层上方的沟道层,沟道层上方的势垒层,外延结构表面制作晶体...
苗操刘兆平
一种氮化物半导体晶体管外延结构
本发明提供一种氮化物半导体晶体管外延结构,包括:衬底,衬底上方的成核层,其特征在于,成核层上方设置有耐压缓冲层,缓冲层上方设有背势垒层,背势垒层上方设有沟道层,沟道层上方设有势垒层,在背势垒层与沟道层之间设有n型掺杂层。...
苗操刘兆平
III族氮化物单晶基板的制造方法
提供了一种III族氮化物单晶基板的制造方法,该方法可以缩短器件的制造时间,并且可以抑制器件制造期间的裂纹和特性劣化。该III族氮化物单晶基板的制造方法包括执行以下:准备包括氮化物陶瓷的支承基板的支承基板准备步骤;在支承基...
久保田芳宏
III族氮化物半导体的制造方法
本发明提供制造III族氮化物半导体的方法。III族氮化物半导体的制造方法具有如下工序。准备从背面向表面依次层叠有第一III族氮化物层和第二III族氮化物层的III族氮化物基板的工序,所述第一III族氮化物层对于400nm...
岩泽绫子冈山芳央冈本贵敏
一种增强型氮化物半导体晶体管外延结构
本发明提供一种增强型氮化物半导体晶体管外延结构,包括:衬底,成核层,缓冲层,沟道层,势垒层,还包括设置在势垒层上的帽层,所述帽层包含Al组分沿外延生长方向逐渐递减,或者In组分沿外延生长方向逐渐递增的p型极化掺杂AlIn...
苗操刘兆平
氮化物晶体基板的制造方法和剥离中间体
一种氮化物晶体基板的制造方法和剥离中间体。所述制造方法具备如下的工序:(a)准备基底基板;(b)在基底基板的上方形成包含n型的III族氮化物晶体的中间层;(c)在中间层上形成覆盖层;(d)通过电化学处理,维持覆盖层的表面...
横山正史藤仓序章今野泰一郎
大尺寸氮化物晶体的液相生长和掺杂方法
本申请公开了一种大尺寸氮化物晶体的液相生长和掺杂方法,包括:将含有掺杂元素的氮化物多晶原料及矿化剂置入反应器内的原料区,并将氮化物籽晶置入反应器内的生长区,且以挡板将原料区与生长区分隔,挡板具有可将原料区与生长区连通的通...
王杰
氮化物半导体紫外线发光元件及其制造方法
氮化物半导体紫外线发光元件具备将包含纤锌矿构造的AlGaN系半导体的n型层、活性层及p型层层叠于上下方向的发光元件构造部,n型层以n型AlGaN系半导体构成,活性层包含以AlGaN系半导体构成的1层以上的阱层,p型层以p...
平野光长泽阳祐
一种复合氮化物催化剂和制备方法及应用
本申请公开了一种复合氮化物催化剂和制备方法及应用,所述复合氮化物催化剂包括过渡金属氮化物和稀土金属氮化物;所述复合氮化物催化剂中,所述过渡金属氮化物与所述稀土金属氮化物的摩尔比为0.5:1~50:1。本申请中公开的复合氮...
陈萍王杰敏柳林郭建平鞠晓花

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作品数:884被引量:527H指数:10
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:氮化镓 发光二极管 衬底 多量子阱 GAN
王新强
作品数:207被引量:15H指数:2
供职机构:北京大学
研究主题:氮化物 氮化镓 分子束外延生长 单晶 分子束外延
王永进
作品数:206被引量:36H指数:4
供职机构:南京邮电大学
研究主题:硅衬底 氮化物 可见光 可见光通信 刻蚀技术
沈波
作品数:469被引量:271H指数:8
供职机构:北京大学
研究主题:氮化镓 GAN 氮化物 位错 成核