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基于正交多项式回归分析的超细石膏粉体制备效果的研究
2025年
为显著提升超细石膏粉体制备效果,研究对助磨剂进行电化学预处理,基于正交试验的方法,确定了最佳电化学预处理条件,并建立正交多项式回归预测模型进行预测。结果表明,正交多项式回归分析得出的影响助磨效果制备超细石膏粉体的特征重要性排序为:极板间距、电流密度和电解时间。最优电化学预处理助磨剂制备超细石膏粉体的条件:电流密度为5.7×10^(-7)A/m^(2)、极板间距为4cm及电解时间为15min。正交多项式回归模型的预测值与试验值的误差在±2.22%之间。原因在于,电化学预处理可显著降低EDTA溶液的黏度,提高EDTA溶液中悬浮颗粒的分散性,同时能够打破EDTA溶液的电离平衡,增大EDTA溶液的解离常数。研究对电化学预处理提高EDTA对生石膏的超细磨有一定的参考实际意义。
张艺瑶王宇斌彭祥玉马晓晓雷大士
关键词：生石膏超细磨正交多项式
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王晓伟许本胜何奥迪管晓乐王泽宇
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钟崴毛熠辉林小杰周懿
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