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半导体硅片双面同步抛光装置
本实用新型涉及半导体硅片抛光工具技术领域,具体地说,涉及半导体硅片双面同步抛光装置,包括U形架,U形架的左右两侧板体上均设置有夹持组件,U形架的后侧板体顶面上固定安装有顶部支撑架,顶部支撑架上设置有抛光组件,抛光组件包括...
寇珑璠寇世尧马向宁
一种半导体硅片检测照明装置
本实用新型提供了一种半导体硅片检测照明装置,涉及半导体硅片检测技术领域,包括检测装置体及其所述检测装置体上端设置的蛇形连接套管。紧固块的上端设置有第一蛇形连接杆,第一蛇形连接杆的上端设置有挤压放置环,挤压放置环的内侧设置...
易正瑜廖毅郑彦王素强
一种半导体硅片表面抛光机
本发明涉及半导体硅片生产技术领域,具体为一种半导体硅片表面抛光机,所述底座上端面固定安装有前后对称的立滑杆以及位于前后对称的立滑杆之间的支撑筒,底座上端面还设置有用于将半导体硅片连续运输至抛光空间的运输机构。该半导体硅片...
周磊蒋孟林丁媛郑伟窦沛静
一种半导体硅片表面抛光机
本发明涉及半导体硅片生产技术领域,具体为一种半导体硅片表面抛光机,所述底座上端面固定安装有前后对称的立滑杆以及位于前后对称的立滑杆之间的支撑筒,底座上端面还设置有用于将半导体硅片连续运输至抛光空间的运输机构。该半导体硅片...
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一种半导体硅片电化学机械抛光方法
本发明提供了一种半导体硅片电化学机械抛光方法,属于半导体制造技术领域。该方法包括使用超纯水和丙酮对硅片进行清洗并用氮气吹干,随后配置含有柠檬酸、硫酸钠、葡萄糖酸钠、磷酸钠、表面活性剂、增效剂、硝酸镧、二氧化钛、几丁质及去...
阚开乐张茂亮
一种高效弯曲分片的半导体硅片分片装置
本发明提供一种高效弯曲分片的半导体硅片分片装置,包括分片组件,分片组件包括弯曲模块、举升模块和固定支架;弯曲模块包括多个吸附块;在平直承托状态时,支撑架朝上移动对多个吸附块承托,多个吸附平面水平共面;在弯曲分片状态时,支...
马子昂彭宇林靖淇林立
一种半导体硅片定位取料设备及方法
本发明涉及晶片输送技术领域,特别涉及一种半导体硅片定位取料设备及方法,包括前后对称分布且用于传动的两个滑轨装置;还包括承托装置,所述承托装置连接在两个所述滑轨装置之间,所述承托装置包括设置在两个所述滑轨装置之间的承托环板...
周磊蒋孟林丁媛郑伟窦沛静
可旋转的半导体硅片寻边器及其控制方法
本发明涉及一种可旋转的半导体硅片寻边器及其控制方法,所属半导体硅片加工设备技术领域,包括底座,底座上设有旋转架,旋转架内设有与旋转架相轴承式活动插接的滚轴组件,滚轴组件两端均设有固定板,一侧的固定板外设有与滚轴组件相插嵌...
杨自立田飞熊春力
应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法
本申请涉及温度控制技术领域,具体涉及一种应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法。所述方法包括:对所述光电半导体硅片在退火过程中的温度数据进行预处理,获取温度预处理数据集;根据所述温度预处理数据集,获取温度隶属度函数;根据...
冯文丽张国峰郭党杜珂金刚
一种半导体硅片蚀刻液、其制备方法与应用
本发明提供一种半导体硅片蚀刻液、其制备方法与应用,本发明半导体硅片蚀刻液,包括重量配比如下的各组分:无机酸1‑6份;铵盐7‑20份;有机酸30‑40份;超纯水30‑60份。本发明半导体硅片蚀刻液的制备方法包括以下步骤:按...
武文东侯军田继升

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作品数:47被引量:48H指数:4
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作品数:304被引量:710H指数:14
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研究主题:CEO 纳米CEO2 纳米 化学机械抛光 沉淀法
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作品数:84被引量:71H指数:5
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